[发明专利]基于大位阻空间电荷转移的TADF材料及其合成方法与应用有效
申请号: | 201810341440.1 | 申请日: | 2018-04-17 |
公开(公告)号: | CN108484592B | 公开(公告)日: | 2021-10-08 |
发明(设计)人: | 杨湛;毛竹;赵娟;陈晓洁;杨志涌;于涛;郑世昭;刘四委;张艺;池振国;许家瑞 | 申请(专利权)人: | 中山大学 |
主分类号: | C07D417/12 | 分类号: | C07D417/12;C07D209/86;C09K11/06;H01L51/50;H01L51/54 |
代理公司: | 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 | 代理人: | 周端仪 |
地址: | 510275 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 大位阻 空间电荷 转移 tadf 材料 及其 合成 方法 应用 | ||
【权利要求书】:
1.一种基于大位阻空间电荷转移的TADF材料,其结构如通式所示:
2.权利要求1所述大位阻空间电荷转移的TADF材料应用于制备有机电致发光器件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中山大学,未经中山大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810341440.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于治疗阿尔茨海默症的化合物及其应用
- 下一篇:一种黄藤素的合成方法