[实用新型]一种用于气体发生的新型反应杯有效
申请号: | 201721014906.4 | 申请日: | 2017-08-14 |
公开(公告)号: | CN207076472U | 公开(公告)日: | 2018-03-09 |
发明(设计)人: | 张勤;施苏利;李可;王丽坤;王广志 | 申请(专利权)人: | 廊坊开元高技术开发公司 |
主分类号: | B01L3/00 | 分类号: | B01L3/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 065000 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 气体 发生 新型 反应 | ||
技术领域
本实用新型涉及气体发生技术领域,尤其涉及一种用于气体发生的新型反应杯。
背景技术
气体发生-原子荧光光谱法是一种新的联用分析技术,也是目前原子荧光光谱分析领域中最有实用价值的分析技术。这种方法将气体发生技术与无色散原子荧光光谱法完美结合,可实现各类样品中痕量超痕量砷、锑、铋、硒、铅、锡、锗和汞等元素的低检出限、高精度的准确测定。
目前测定过程中因设备内壁污染而影响检测数据出错的问题是最为突出、最难以解决的。主要影响测定的长期稳定性和性能指标。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的测定过程中设备内壁污染会影响检测数据的缺点,而提出的一种用于气体发生的新型反应杯。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
设计一种用于气体发生的新型反应杯,包括反应杯体,所述反应杯体的顶部设置有反应密封盖,所述反应杯体内设置有液态化合物,所述反应杯体包括依次设置的第一圆柱体、第二圆柱体和锥形头,所述锥形头位于第二圆柱体的下方,且第一圆柱体位于第二圆柱体的上方,所述第一圆柱体、第二圆柱体和锥形头的内部相互贯通,且反应密封盖设置在第一圆柱体的顶部;
所述反应密封盖上分别插设有搅拌气管、清洗水管以及还原剂管,所述搅拌气管的底端插设在锥形头内。
优选的,所述第一圆柱体的外部直径大于第二圆柱体的外部直径。
优选的,所述反应杯体的内、外部直径均在0.01mm~1000mm之间,且反应杯体的高度在0.01mm~1000mm之间。
优选的,所述反应杯体设置为密度在2000kg/m3或2000kg/m3以上的金属杯体或非金属杯体。
本实用新型提出的一种用于气体发生的新型反应杯,有益效果在于:本实用新型具有大容积、无“排放”、反应稳定性好、不挂壁、无气泡产生的特点,可有效克服传统设备中的记忆效应严重、气泡对检测数据会产生干扰的情况,显著改善仪器的可靠性和长期稳定性,提高仪器的技术性能。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种用于气体发生的新型反应杯的外部结构示意图;
图2为本实用新型提出的一种用于气体发生的新型反应杯的内部剖视图。
图中:第一圆柱体1、第二圆柱体2、锥形头3、反应杯体4、搅拌气管5、清洗水管6、反应密封盖7、还原剂管8、液态化合物9。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
参照图1-2,一种用于气体发生的新型反应杯,包括反应杯体4,反应杯体4的顶部设置有反应密封盖7,反应杯体4设置为密度在2000kg/m3或2000kg/m3以上的金属杯体或非金属杯体,这样设置可降低污染量,反应杯体4内设置有液态化合物9。
反应杯体4包括依次设置的第一圆柱体1、第二圆柱体2和锥形头3,锥形头3位于第二圆柱体2的下方,且第一圆柱体1位于第二圆柱体2的上方,第一圆柱体1、第二圆柱体2和锥形头3的内部相互贯通,且反应密封盖7设置在第一圆柱体1的顶部,第一圆柱体1的外部直径大于第二圆柱体2的外部直径,方便反应的进行,反应杯体4的内、外部直径均在0.01mm~1000mm之间,且反应杯体4的高度在0.01mm~1000mm之间,这样设置便于实际实用。
反应密封盖7上分别插设有搅拌气管5、清洗水管6以及还原剂管8,搅拌气管5的底端插设在锥形头3内。
可气体发生的溶液注入到反应杯体4内进行剧烈反应时,或者将惰性气体通过搅拌气管5注入反应杯体4内部进行搅拌时产生的气泡或残液不会在反应杯体4内部腔体残留,含待测气体的水泡破裂延迟不会对检测数据的准确性产生干扰。
气体发生时,反应密封盖7和反应杯体4压紧密实,同时分别通过搅拌气管5和还原剂管8将搅拌气以及还原剂加注至反应杯体4内进行气体发生反应,液态化合物9发生质变,废液集中处理后,通过清洗水管6将清洗水注入反应杯体4内对反应杯体4进行清洗,杯腔内部冲洗洁净后,即可继续对下一样品进行测定。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
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