[实用新型]一种除去硅溶胶杂质的离心装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及硅溶胶生产技术领域，特别涉及一种除去硅溶胶杂质的离心装置。

背景技术

硅溶胶是粒径在1-100纳米范围的纳米二氧化硅在水或其他有机溶剂中的分散液，广泛应用于精密铸造、耐火材料、涂料、纺织、精密抛光等领域。

目前硅溶胶生产方法主要有离子交换法和硅粉水解法。

离子交换法生产硅溶胶具有很久的历史，这种方法采用硅酸钠为原料，先将硅酸钠配制成5-10%的水溶液，然后通过阳离子交换树脂进行离子交换，除去钠离子而得到稀的硅酸水溶液，然后将3-6%的稀硅酸溶液滴加到反应釜中，通过控制体系的pH值和温度，使硅酸逐渐在碱性条件下聚合成二氧化硅粒子，然后经过浓缩，得到硅溶胶成品。这种生产技术由于成本低而被很多企业采用，但是有两个缺点：（一）离子交换树脂的再生要产生大量的废水，后期的浓缩过程也要产生大量的废水，会造成比较严重的环境污染。（二）生产周期比较长，整个生产周期需要几十个小时，生产效率低。

硅粉水解法的生产工艺要简单一些，在反应釜中加入水，加入碱性催化剂，升温至合适温度后，加入硅粉，使硅粉在碱催化下进行水解，生成硅酸并聚合成二氧化硅粒子从而得到硅溶胶，最后经过过滤，除去未反应的硅粉，浓缩至一定浓度，就得到硅溶胶产品，整个生产周期不到10小时，而且没有废水产生，过滤产生的少量废渣可以作为耐火材料的原料，因而没有环境污染问题。因此，近年来硅粉水解法得到了长足的发展，越来越多的企业采用硅粉水解法生产硅溶胶。

但是，在硅粉水解法生产过程中通过过滤工艺无法将硅粉完全去除，因为有些未反应的细小硅粉会穿过滤布进入产品中，形成硅溶胶中的固体杂质，放置一段时间后会形成少量黑色的沉淀，影响产品的品质。如何去除硅粉水解法生产的硅溶胶的沉淀杂质一直是困扰硅溶胶生产企业的一个难题。

发明内容

本实用新型要解决的技术问题是克服现有技术的上述缺陷，提供一种除去硅溶胶杂质的离心装置。该离心装置能够有效去除硅溶胶中细小的硅粉杂质，提高产品质量，通过由传统的间歇式加料和出料改为连续性进料和出料，一个工人可以同时看管多台离心机同时工作，有效提高了工人的劳动效率。

本实用新型是通过以下技术方案实现的：

一种除去硅溶胶杂质的离心装置，包括顺次连接的原料池、自动进料装置、离心机、撇液装置和产品池，所述自动进料装置包括伸入原料池中的加料泵、连接加料泵的进料管，所述进料管上设有进料管阀门，所述离心机包括转鼓、转鼓内有物料，所述撇液装置通过撇液管连接离心机和产品池；

所述进料管的进料口靠近转鼓的下部，所述撇液管的撇液口靠近转鼓的上部。

如此设计，通过加料泵和进料管阀门可实现自动进料和流量控制，有效实现离心时间的调节，具有自动加料、自动出料的优点，且操作很方便。另外，进料管的进料口靠近转鼓的下部，撇液管的出料口靠近转鼓的上部，这样可以增加硅溶胶从进入离心机到被撇液管撇出的离心时间，有效提高离心分离效果。

作为优化，所述加料泵为蠕动泵或隔膜泵。如此设计，工作时，要处理的硅溶胶用蠕动泵或隔膜泵按照一定的流量从进料管加入高速旋转的转鼓内，进行离心沉降分离，固体硅粉杂质在离心力的作用下沉降到转鼓的内壁，而撇液装置的撇液口位于转鼓内离心旋转状态的硅溶胶液面，将液面处澄清的硅溶胶撇出，澄清的硅溶胶从撇液管的管道进入产品池。

本实用新型的有益效果是：

本实用新型，结构简单、设计科学、操作和使用方便，能够有效去除硅溶胶中细小的硅粉杂质，提高产品质量，通过由传统的间歇式加料和出料改为连续性进料和出料，一个工人可以同时看管多台离心机同时工作，有效提高了工人的劳动效率。具有较好的实际应用价值和推广价值。

附图说明

下面结合附图对一种除去硅溶胶杂质的离心装置作进一步说明：

图1是一种除去硅溶胶杂质的离心装置的结构示意图。

图中：1为原料池、2为加料泵、3为进料管、4为进料管阀门、5为进料口、6为转鼓、7为物料、8为撇液装置、9为撇液管、10为撇液口、11为产品池。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下参照附图并举实施例，对本实用新型进一步详细说明。