[发明专利]金属电极及其制备方法、触控板、触控装置在审

专利信息
申请号: 201711488857.2 申请日: 2017-12-30
公开(公告)号: CN109992146A 公开(公告)日: 2019-07-09
发明(设计)人: 王士敏;赵湘辉;朱泽力;古海裕;宋小来;李宝会 申请(专利权)人: 深圳莱宝高科技股份有限公司;重庆莱宝科技有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 生启
地址: 518057 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 金属电极 触控装置 触控板 导电层 过渡层 黑化层 氮氧化物 导电金属 氮化物 附着性 灵敏度 钼合金 氧化物 叠层 消影 制备
【说明书】:

发明涉及一种金属电极、触控板及触控装置。一种金属电极,用于触控装置,金属电极包括依次叠层的第一黑化层、过渡层及导电层。第一黑化层的材料选自钼的氧化物、钼的氮化物及钼的氮氧化物中的至少一种。所述过渡层的材料选自钼及钼合金中的至少一种。所述导电层的材料为导电金属。上述金属电极具有优良的消影效果、附着性及灵敏度。

技术领域

本发明涉及触控领域,特别是涉及一种金属电极及其制备方法、触控板、触控装置。

背景技术

当前全球经济借助于移动通信、移动互联网、云计算、物联网、电子商务的发展,信息技术的市场需求突飞猛涨,为新兴电子产品提供了广阔的应用领域。触摸显示技术只需在显示屏上触碰相应的图案或者文字选项就能实现对显示内容的操作,使人机互换变得更加简洁直观。

目前触控装置主要采用氧化铟锡(ITO)形成图形来作为触控电极。但由于触控显示面板朝着大尺寸、高灵敏、低响应时间等方向发展,ITO电极电阻大、成本高等因素限制了ITO的进一步应用。因此,具有低电阻及低成本优势的新一代触控技术Metal Mesh(金属网格)成为ITO在中大尺寸发展劲敌。但由于金属是非透明的,同时金属具有高反射率及轻微金属色泽等问题,使得人眼易于发现金属电极反光,影响体验效果。

目前有采用抗炫膜(AG膜)消除金属反光,但是会降低透光性与显示质量,也有采用金属电极图形后再电镀黑化层来解决金属电极的反光问题的技术,但现有的黑化层的耐化性不好、与金属电极的附着力差,而且工艺复杂、成本高及良率低。

发明内容

基于此,本发明提供了一种耐化性与附着性优异、且能明显降低其中金属网格结构反光的金属电极及其制备方法、触控板、触控装置。

一种金属电极,用于触控装置,所述的金属电极包括依次叠层的第一黑化层、过渡层及导电层;

所述第一黑化层的材料选自钼的氧化物、钼的氮化物及钼的氮氧化物中的至少一种;

所述过渡层的材料选自钼及钼合金中的至少一种;

所述导电层的材料为导电金属。

上述金属电极,包括依次叠层的第一黑化层、过渡层及导电层,第一黑化层能够有效降低金属电极表面光线的反射,达到减少反射,导电金属消影的目的。第一黑化层选用钼作为原料,并经氧化、氮化或氮氧化处理之后作为黑化层,有效的提高黑化层的耐化性。过渡层能够增加第一黑化层与导电层的附着力,防止加工过程中,第一黑化层从导电电极上脱落。另外经实验测定,过渡层还能够进一步的减少金属电极表面光线的反射,提高消影效果。导电层采用导电金属,相比传统的触控电极材料ITO,导电层的方阻小,信噪比大,有效提升了触控电极的灵敏度。

在其中一个实施例中,所述第一黑化层的材料还包括的M的氧化物、M的氮化物及M的氮氧化物中的至少一种,其中M选自铌、铬、钛及钨中的至少一种。以钼合金作为靶材的好处是钼合金靶材加工及镀膜工艺成熟,制备的黑化层的优势是工艺稳定且黑化及耐化性能较佳。

在其中一个实施例中,所述第一黑化层的厚度为10nm~100nm;所述过渡层的厚度为10nm~150nm;所述导电层的厚度为50nm~800nm。

在其中一个实施例中,所述钼合金为铌、铬、钛、钨中至少一种与钼的合金。

在其中一个实施例中,还包括层叠于所述导电层表面的保护层,所述保护层的材料为钼或钼合金。保护层能够防止导电层作为电极的的金属被耐腐蚀性和耐氧化性,从而提高导电层的导电效率。

在其中一个实施例中,还包括叠层于所述保护层的表面的第二黑化层。所述第二黑化层的材料包括钼的氧化物、钼的氮化物及钼的氮氧化物中的至少一种。第二黑化层的存在使得金属电极具有双面黑化的结构,避免分辨金属电极的黑化层表面与非黑化层表面,提高了安装及应用金属电极时的组装效率。另外,具有双面黑化层的金属的导电性及消影效果也更佳。

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