[发明专利]用于清洁湿法蚀刻机的缓冲单元的快门的装置和方法

说明书

提供一种用于清洁湿法蚀刻机的缓冲单元的快门的装置和方法以及湿法蚀刻机的包括该装置的缓冲单元。湿法蚀刻机包括在基板的运动方向上顺序设置的缓冲单元和蚀刻单元，缓冲单元与蚀刻单元通过腔壁彼此分隔开，腔壁包括窗口以使基板从缓冲单元经由窗口进入蚀刻单元，快门设置在腔壁的面对缓冲单元的侧面上并且用于控制窗口的打开或关闭。用于清洁湿法蚀刻机的缓冲单元的快门的装置与快门相邻地设置在缓冲单元中，该装置包括：输运管，用于输运对快门进行清洁的流体；至少一个喷嘴，流体连通到输运管，并且用于朝向快门喷射流体以对快门进行清洁。

技术领域

本发明涉及显示器制造技术领域，更具体地讲，涉及一种用于清洁湿法蚀刻机缓冲单元快门的装置和方法以及包括该装置的缓冲单元。

背景技术

蚀刻工艺在显示器的制造过程中是非常重要的工艺环节。蚀刻可以分为湿法蚀刻和干法蚀刻。湿法蚀刻利用化学溶液与薄膜(例如，基板上的薄膜)间的化学反应来去除薄膜未被光阻覆盖的部分，进而使薄膜形成期望图案。

在湿法蚀刻过程中，待蚀刻的基板在湿法蚀刻设备中通过设置在湿法蚀刻设备中的相邻腔室之间的允许基板通过的窗口来在各个腔室之间传送，并且通过设置在该窗口处的快门来控制该窗口的打开和关闭。

然而，当基板通过窗口进入蚀刻腔室时，往往会出现基板被划伤的问题，或者出现设备制程异常报警的问题。这是因为，蚀刻药液中部分成分(例如草酸)易挥发，并且水的挥发量远大于这些成分的消耗量，所以在蚀刻机待机时，残留在蚀刻机腔室里的药液容易形成结晶(例如草酸结晶)。在蚀刻设备运行时，设备会在基板进入蚀刻腔室时对基板表面进行药液置换，从而导致一部分药液残留在快门上。在设备进入待机状态后，该残留的药液容易在快门上形成结晶。这就会在后续的制程中造成基板的划伤，或者会将基板顶起而导致蚀刻腔室位置传感器感应异常，进而导致制程异常报警。

在现有技术中，往往通过对蚀刻设备等进行定期保养和清理来解决上述技术问题。然而，这种方法并不能实时而有效地对快门进行清洁，从而不能在设备运行期间有效地防止划伤晶片，也不能保障设备正常顺利地运行。另外，传统的定期保养和清理往往需要人工手动地执行，这会增大设备中的结晶被操作人员吸入体内而对人体造成伤害的风险。

发明内容

本发明的示例性实施例在于提供一种有效且及时地去除残留在快门上的蚀刻药液或者去除在快门上形成的结晶的快门清洁装置。

本发明的示例性实施例在于提供一种能够更充分地去除残留在快门上的蚀刻药液或者去除在快门上形成的结晶的快门清洁装置。

本发明的示例性实施例在于提供一种能够更精确地对快门进行实时的清洁的快门清洁装置。

本发明的示例性实施例在于提供一种包括上述快门清洁装置的湿法蚀刻机的缓冲单元。

本发明的示例性实施例在于提供一种利用上述快门清洁装置对缓冲单元中的快门进行清洁的方法。

根据本发明的实施例提供了一种用于清洁湿法蚀刻机的缓冲单元的快门的装置。湿法蚀刻机可以包括在基板的运动方向上顺序设置的缓冲单元和蚀刻单元，缓冲单元与蚀刻单元可以通过腔壁彼此分隔开，腔壁可以包括窗口以使基板从缓冲单元经由窗口进入蚀刻单元。快门可以设置在腔壁的面对缓冲单元的侧面上并且用于控制窗口的打开或关闭。用于清洁湿法蚀刻机的缓冲单元的快门的装置可以与快门相邻地设置在缓冲单元中，所述装置包括：输运管，用于输运对快门进行清洁的流体；以及至少一个喷嘴，流体连通到输运管，并且用于朝向快门喷射流体以对快门进行清洁。

所述装置可以与快门相邻地设置在窗口上方。

所述装置可以与快门相邻地设置在窗口下方。

所述装置可以与快门相邻地设置在窗口上方和下方。