[发明专利]用于清洁湿法蚀刻机的缓冲单元的快门的装置和方法

权利要求书

1.一种用于清洁湿法蚀刻机的缓冲单元的快门的装置，所述湿法蚀刻机包括在基板的运动方向上顺序设置的缓冲单元和蚀刻单元，缓冲单元与蚀刻单元通过腔壁彼此分隔开，腔壁包括窗口以使基板从缓冲单元经由窗口进入蚀刻单元，快门设置在腔壁的面对缓冲单元的侧面上并且用于控制窗口的打开或关闭，

其中，所述装置与快门相邻地设置在缓冲单元中，所述装置包括：

输运管，用于输运对快门进行清洁的流体；以及

至少一个喷嘴，流体连通到输运管，并且用于朝向快门喷射所述流体以对快门进行清洁。

2.如权利要求1所述的装置，其中，所述装置与快门相邻地设置在所述窗口上方。

3.如权利要求1所述的装置，其中，所述装置与快门相邻地设置在所述窗口下方。

4.如权利要求1所述的装置，其中，所述装置与快门相邻地设置在所述窗口上方和下方。

5.如权利要求1所述的装置，其中，所述装置还包括设置在快门的闭合位置处的传感器，

所述传感器用于感测快门的闭合，以在快门闭合时向控制器发送指示快门闭合的感测信号，所述装置响应于所述感测信号对快门进行清洁。

6.如权利要求1所述的装置，其中，所述至少一个喷嘴包括沿输运管的长度方向以预定间隔设置在输运管上的多个喷嘴。

7.如权利要求1所述的装置，其中，所述流体包括去离子水或水气二流体。

8.一种湿法蚀刻机的缓冲单元，所述缓冲单元包括：

如权利要求1至权利要求7中任一项权利要求所述的装置；以及

输运部，包括多个辊轮，所述多个辊轮用于承载基板并且将基板从缓冲单元传送到蚀刻单元中。

9.一种用于清洁湿法蚀刻机的缓冲单元的快门的方法，所述湿法蚀刻机包括在基板的运动方向上顺序设置的缓冲单元和蚀刻单元，缓冲单元与蚀刻单元通过腔壁彼此分隔开，腔壁包括窗口以使基板从缓冲单元经由窗口进入蚀刻单元，快门设置在腔壁的面对缓冲单元的侧面上并且用于控制窗口的打开或关闭，

其中，缓冲单元包括用于清洁湿法蚀刻机的缓冲单元的快门的装置，所述装置与快门相邻地设置在缓冲单元中，所述装置包括：输运管，用于输运对快门进行清洁的流体；至少一个喷嘴，流体连通到输运管，并且用于朝向快门喷射所述流体以对快门进行清洁，

其中，所述方法包括：

在湿法蚀刻机运行期间，当基板从缓冲单元完全进入蚀刻单元并且快门闭合时，利用所述装置对快门喷射流体，以对快门清洁第一预定时间；以及

在湿法蚀刻机处于待机状态预定间隔时间后，利用所述装置对快门清洁第二预定时间。

10.如权利要求9所述的方法，其中，所述第一预定时间比快门的闭合与下一次打开之间的间隔时间短。

11.如权利要求9所述的方法，其中，所述第二预定时间大于所述第一预定时间。

12.如权利要求9所述的方法，其中，所述装置还包括设置在快门的闭合位置处的传感器，所述对快门清洁第一预定时间的步骤还包括：

当快门闭合时，所述传感器感测快门的闭合而向控制器发送相应的感测信号，所述装置响应于所述感测信号来对快门进行清洁。