[发明专利]一种三沟水流同向Orbal氧化沟流态调节结构及方法

权利要求书

1.一种三沟水流同向Orbal氧化沟流态调节结构，其特征在于，包括设置在氧化沟外侧的氧化沟中沟（2）与氧化沟外沟（1），在氧化沟中沟（2）与氧化沟外沟（1）上分别间隔设置有曝气区与缺氧区，所述的氧化沟中沟（2）与氧化沟外沟（1）之间设置有隔墙（3），在隔墙（3）上的曝气区与缺氧区交界处沿水流方向向下游开设一定宽度孔洞（10）；

所述的曝气区分为外沟曝气区（5）与中沟曝气区（7），所述的缺氧区分为外沟缺氧区（4）与中沟缺氧区（6）；

所述的外沟曝气区（5）与中沟缺氧区（6）在以同一点为圆心的扇形范围内，所述的外沟缺氧区（4）与中沟曝气区（7）在以同一点为圆心的扇形范围内；

所述的外沟缺氧区（4）与中沟缺氧区（6）之间的水流交替流动且不改变方向。

2.根据权利要求1所述的一种三沟水流同向Orbal氧化沟流态调节结构，其特征在于，所述的孔洞（10）的外沟曝气区（5）设置外分水墙（8），中沟缺氧区（6）设置有内导流墙（9），中沟曝气区（7）设置有内分水墙（13），外沟缺氧区（4）设置外导流墙（12）；

同一孔洞（10）的外分水墙（8）与内导流墙（9）分别位于孔洞（10）两侧，且曲度异向，外导流墙（12）和内分水墙（13）也位于同一孔洞（10）两侧且曲度异向；

所述的内导流墙（9）、内分水墙（13）与隔墙（3）曲度异向，外导流墙（12）、外分水墙（8）与隔墙（3）曲度同向。

3.根据权利要求2所述的一种三沟水流同向Orbal氧化沟流态调节结构，其特征在于，所述的外分水墙（8）与隔墙（3）上有包围区域（11），包围区域（11）不设置底部曝气盘。

4.基于权利要求1所述一种三沟水流同向Orbal氧化沟流态调节结构的调节方法，其特征在于，原水首先进入氧化沟外沟缺氧区（4），水流流经外沟缺氧区（4）与外沟曝气区（5）交界处，在曝气区外分水墙（8）的作用下，部分水流从孔洞（10）中流出，同时曝气区外分水墙（8）与隔墙（3）包围区域（11）不设置微孔曝气头，从而减少曝气系统对水流穿过孔洞（10）的阻力，缺氧区内导流墙（9）将孔洞（10）流出的水流顺利导入下游中沟缺氧区（6），缺氧区内导流墙（9）可防止中沟缺氧区（6）混合液对孔洞出水的影响，水流在孔洞（10）与外分水墙（8）、内导流墙（9）的作用下，从外沟缺氧区（4）不改变方向的流到中沟缺氧区（6），水流在中沟缺氧区（6）向下游流动，当水流流经中沟缺氧区（6）与中沟曝气区（7）交界处时，部分水流在孔洞（10）与外导流墙（12）、内分水墙（13）的作用下再次进入外沟下一个外沟缺氧区（4），并继续向下游流动，重复以上过程。