[发明专利]一种无公害陶瓷釉下彩熔剂的制备方法在审
申请号: | 201711355870.0 | 申请日: | 2017-12-16 |
公开(公告)号: | CN109928629A | 公开(公告)日: | 2019-06-25 |
发明(设计)人: | 袁珍 | 申请(专利权)人: | 袁珍 |
主分类号: | C03C8/02 | 分类号: | C03C8/02;C03C8/14;C03C1/04;C04B41/86 |
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地址: | 333000 江西*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 熔剂 陶瓷釉下彩 制备 日用陶瓷 无公害 低温热处理 干燥工序 高温熔制 化学组成 研磨 耐碱性 陶瓷釉 过筛 球磨 | ||
1.一种无公害陶瓷釉下彩熔剂的制备方法,其特征在于:其特征在于:按照化学组成百分比:SiO2 32%、B2O3 36%、 Al2O3 22%、 Li2O 2%、KNaO 2%、CaO 2%、Nb2O5 2%、Ta2O5 2%,经配料、研磨、高温熔制、低温热处理、自然冷却、球磨、过筛、干燥工序获得陶瓷釉下彩熔剂。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述高温熔制工序的参数为:升温速率为5℃/min,最高熔制温度为1360~1390℃,保温时间为60min。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述低温热处理工序为:将高温熔制后的熔体倒入预热至600℃的钢槽中,然后经10~100h升温至700℃。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述过筛工序为:过380目筛,筛余为0。
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