[发明专利]一种日光温室黄瓜残株还田的方法及其应用

说明书

本发明提供了一种日光温室黄瓜残株还田的方法以及其应用，该方法包括：将日光温室中的黄瓜残株进行直接机械粉碎并覆盖于土壤上，向黄瓜残株碎段上喷水，然后进行初级高温降解；土壤表面施用有机肥并旋耕深翻覆盖有机肥和初级高温降解所得到的黄瓜残株碎段的土壤，灌水，覆地膜，然后进行次级高温降解，以杀灭20‑30cm以上土壤层中的病原菌和线虫并使得土壤中的黄瓜残株碎段腐熟，再通风换气；测定并调整土壤的pH值至6‑7；在定植下茬植株前进行移动式土壤蒸汽消毒，以杀灭40cm以上土壤层中的病原菌和线虫并疏松土壤。采用本发明的方法能够显著提高黄瓜的产量，并降低病虫害。

技术领域

本发明属于温室日光温室种植领域，具体地，涉及一种日光温室黄瓜残株还田的方法。

背景技术

近年来，我国设施蔬菜产业发展迅猛，其栽培面积和产量所占比重逐年增加，至2013年设施蔬菜种植面积达370万hm²，占蔬菜种植面积的18％以上；设施蔬菜总产量达到2.5亿t，占蔬菜总产量的34％，已成为农民增收、农业增效的重要组成部分。

但是，由于日光温室内长期高温，不合理施肥，以及连作等原因导致现在日光温室土壤存在板结、盐化、酸化、养分失衡、病虫害频发等问题。如何改善日光温室土壤的现状是现代设施蔬菜所面临的一大难题。

现代设施蔬菜所面临的另一问题是蔬菜残株的资源化利用。随着设施蔬菜栽培面积的爆发式增长，无经济利用价值的根、茎、叶等蔬菜残株日益增多。而这些蔬菜残株虽然含有丰富的有机质和矿质养分，但是病虫害也较严重，因此，果实收获后的残株一般被移出日光温室。由于缺乏科学合理的利用措施，从而造成严重的资源浪费和环境污染，对人类身体健康造成了一定的威胁。为了将这些残株资源化利用，现有的方法一般是将蔬菜残株进行堆腐还田，但该方法费工费时、成本高、效率低、病虫害杀灭不彻底，严重制约了蔬菜残株的资源化利用。

另外，专利申请CN107022512A公开了一种日光温室作物秸秆还田生物菌剂及生物发酵方法，具体公开了：步骤一，在每年6-8月份日光温室作物采收结束后，将作物秸秆在日光温室内就地粉碎并撒匀还田；步骤二，在日光温室内撒施有机粪肥；步骤三，在日光温室内撒施粉末状菌剂；步骤四，将日光温室土壤进行旋耕深翻，将粉末状菌剂与秸秆粉碎物、土壤和有机粪肥混合均匀；步骤五，将日光温室内的土壤打埂做畦，大水灌足、灌透；步骤六，封棚发酵15-20天，期间7-8天加灌一次水或灌足水后覆膜；步骤七，土壤发酵结束后通风换气，并进行第二次旋耕；步骤八，作物秸秆就地生产生物有机肥并全部混合入日光温室土壤，打埂做畦定植下茬作物。该方法中施用了菌剂，通过菌剂中的微生物抑制土壤中的病虫害，但是并不能充分杀灭土壤中的病原菌，甚至对线虫等害虫并没有效果。并且，其并不能解决土壤板结、盐化、酸化等问题，不利于日光温室的持续性发展。

因此，现在急需一种日光温室黄瓜残株还田的方法及其在改善土壤结构中的应用。

发明内容

本发明的目的是为了解决现有技术中日光温室土壤板结、盐化、酸化以及病虫害频发等问题以及克服黄瓜残株资源化利用的困难。本发明提供了一种日光温室黄瓜残株还田的方法及其应用，从而能够将黄瓜残株更有效地资源化利用以改善土壤结构，防止土壤板结、盐化、酸化以及病虫害频发等问题的发生。

为了实现上述目的，本发明一方面提供了一种日光温室黄瓜残株还田的方法，该方法包括：

(1)将日光温室中的黄瓜残株进行直接机械粉碎并覆盖于土壤上，向黄瓜残株碎段上喷水，然后进行初级高温降解；

(2)土壤表面施用有机肥并旋耕深翻覆盖有机肥和初级高温降解所得到的黄瓜残株碎段的土壤，灌水，覆地膜，然后进行次级高温降解，以杀灭20-30cm以上土壤层中的病原菌和线虫并使得土壤中的黄瓜残株碎段腐熟，再通风换气；

(3)测定并调整土壤的pH值至6-7；