[发明专利]单晶二氧化钛薄膜的制备方法以及制备用蒸发架有效

专利信息
申请号: 201711144462.0 申请日: 2017-11-17
公开(公告)号: CN108950532B 公开(公告)日: 2020-09-18
发明(设计)人: 王国成;宋小霞 申请(专利权)人: 中国科学院深圳先进技术研究院
主分类号: C23C22/54 分类号: C23C22/54;C23C22/34
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 单晶二 氧化 薄膜 制备 方法 以及 蒸发
【权利要求书】:

1.一种单晶二氧化钛薄膜的制备方法,包括:

用酸洗液对钛基金属进行清洗;

将该酸洗后的钛基金属置于蒸发架上,加入形貌引导液浸没该钛基金属,并将所述蒸发架置于装有酸蒸溶液的蒸发釜,加热至120-230℃进行湿蒸处理0.5-24小时;其中,在所述酸蒸溶液中,酸与水的体积比在1%以下。

2.如权利要求1所述的单晶二氧化钛薄膜的制备方法,其中,所述酸洗液为HF与HNO3的混合溶液。

3.如权利要求1所述的单晶二氧化钛薄膜的制备方法,其中,所述酸蒸溶液为选自HF、HCl、HNO3等的一种或多种的溶液。

4.如权利要求1所述的单晶二氧化钛薄膜的制备方法,其中,所述形貌引导液为纯水或卤化盐溶液。

5.如权利要求4所述的单晶二氧化钛薄膜的制备方法,其中,所述卤化盐溶液为SrCl2、NaCl、KCl或CaCl2溶液。

6.如权利要求4所述的单晶二氧化钛薄膜的制备方法,其中,所述卤化盐溶液浓度为0.5至5M。

7.如权利要求1所述的单晶二氧化钛薄膜的制备方法,其中,进行湿蒸处理0.5-12小时。

8.如权利要求1所述的单晶二氧化钛薄膜的制备方法,其中,在160-200℃进行湿蒸处理。

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