[发明专利]流动调节泵、系统和方法在审

专利信息
申请号: 201711031621.6 申请日: 2017-10-27
公开(公告)号: CN108008743A 公开(公告)日: 2018-05-08
发明(设计)人: 托德·A·安德森;乌·K·阮;保罗·F·博世 申请(专利权)人: 固瑞克明尼苏达有限公司
主分类号: G05D16/06 分类号: G05D16/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 杨飞
地址: 美国明*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 流动 调节 系统 方法
【说明书】:

一种调节泵提供了流入流与流出流的断开,使得下游压力不受上游压力的影响。调节泵通过输入阀接收流体,同时输出阀保持在关闭位置。流体连续流到调节泵,直到调节泵充满。在调节泵充满流体的情况下,入口阀移动到关闭位置,从而将调节泵腔与流体源隔离。在入口阀关闭的情况下,调节泵将流体向下游驱动到施涂器。调节泵将上游流体与下游流体完全隔离,使上游压力对下游压力无影响。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2016年10月28日提交的题为“LOW FLOW PLURAL COMPONENTMATERIAL PROPORTIONING”的美国临时申请No.62/ 414,168的优先权,其公开内容全部并入本文。

背景技术

本公开总体涉及一种流动控制。更具体地说,本公开涉及用于隔离 上游流动与下游流动的系统和方法。

诸如涂料,水,油,污渍,表面处理剂,环氧树脂,凝聚体,涂料, 粘合剂,密封剂和溶剂等材料,可能需要低压和低流速来用于施加。流 体调节装置(例如控制阀和压力调节器)可用于将上游流体压力改变为 下游材料流速和/或压力。流动调节装置提供的下游压力和/或流速取决 于上游压力。在材料为多种成分材料的情况下,材料供给源可以具有比期望的下游流速和压力高得多的最小流速和压力。期望的下游流速和来 自材料供给源的最小流速之间的差异可影响混合比的准确度。

发明内容

根据本公开的一个方面,一种流动调节系统包括:第一调节泵,材 料供给源,其设置在所述第一调节泵的上游;以及施涂器,其设置在所 述第一调节泵的下游。所述调节泵包括:第一流体腔;第一入口阀,其 构造为控制流入第一流体腔的流体流;第一出口阀,被构造为控制流出 第一流体腔的流体流;第一流体移位构件,其至少部分地限定第一流体腔,第一流体移位构件被构造为在第一压力下向下游驱动材料使之通过 所述第一出口阀;和第一状态传感器,其连接到所述第一调节泵,所述 第一状态传感器被构造为基于在所述流体腔内的材料体积为再填充体积 而生成第一填充信号,并基于所述流体腔内的材料体积为填满体积而生 成第一泵填满信号。材料供给源流体连接到所述第一入口阀,所述材料供给源被构造为以第二压力将材料提供给所述第一入口阀。施涂器流体 连接到所述第一出口阀。所述第一调节泵构造成使所述材料供给源与所 述施涂器流体隔离,使得所述第一压力独立于所述第二压力且不受所述 第二压力的影响。

根据本公开的另一方面,一种调节泵包括:流体腔;入口阀,其被 构造为控制流入所述流体腔的流体流;出口阀,其被构造为控制流出所 述流体腔的流体流;和流体移位构件,其至少部分地限定流体腔,所述 流体移位构件被构造成在下游压力下向下游驱动材料使之通过所述出口 阀;状态传感器,其连接到所述调节泵。所述状态传感器能够被构造为基于所述流体腔内的材料的体积为再填充体积而生成填充信号,并且基 于所述流体腔内的材料体积为填满体积而生成泵填满信号。所述出口阀 构成为仅在所述入口阀处于关闭位置时处于打开位置,使得所述下游压 力与上游压力隔离并独立于上游压力。

根据本公开的又一方面,一种流动控制的方法包括:基于第一调节 泵的第一流体腔中的实际材料体积为再填充体积生成第一填充信号;根 据第一填充指令,执行第一泵再填充周期,从而利用材料填充第一调节 泵,其中第一流体腔在第一泵再填充周期期间与下游材料流流体隔离, 并且第一流体腔在第一泵再填充周期期间流体连接到上游材料流;和根 据第一分配指令执行第一泵分配周期,其中第一流体腔在第一泵分配周 期期间与上游材料流流体隔离,而第一流体腔在第一泵分配周期期间流 体连接至下游材料流,其中在第一调节泵生成下游压力以在第一泵分配 周期期间向下游将材料驱出第一流体腔。

附图说明

图1是流动调节系统的示意性框图。

图2是流动调节系统的示意性框图。

图3是具有多个调节泵的流动调节系统的示意性框图。

图4是具有多个调节泵的流动调节系统的示意性框图。

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