[发明专利]单层多点式PET基材导电膜及无印刷触摸屏的制作方法

说明书

本发明涉及一种单层多点式PET基材导电膜及触摸屏的制作方法。该单层多点式PET基材导电膜的制作方法，首先对设有ITO层的PET基材进行缩水定型处理，再对ITO层通过激光蚀刻机蚀刻预设的导电图案，得到具有预设导电图案的单层多点式PET基材导电膜。通过使用激光蚀刻方式作业，进行单层多点蚀刻，较之传统的丝印技术，可以省去菲林、网版及蚀刻线制作，工序简单，生产效率高，并且在节约成本的同时还可以省掉因为蚀刻膏带来的环境问题，更环保。激光蚀刻更能满足单层多点窄边导电膜的加工需求，加工精度高。并且得到的单层多点式PET基材导电膜可以使用大片光学胶贴合然后激光切割，比玻璃基材小片贴光学胶效率更高。

技术领域

本发明涉及触摸屏领域，尤其是涉及一种单层多点式PET基材导电膜及无印刷触摸屏的制作方法。

背景技术

传统的触摸屏导电膜普遍通过化学的方式在玻璃上蚀刻ITO层得到，具体来说，包括以下步骤：

1).通过菲林(film)曝光做出对应图案的网版；

2).通过网版在基材上的ITO层丝印蚀刻膏；

3).通过清洗线清除蚀刻膏，注意清洗前还需封住靶标，否则后制程无法对位；

4).通过玻璃切割机将大张基材切割成小片；

5).通过带同轴光电荷藕合器件图像传感器(CCD)的绑定机进行软排线(FPC)绑定组合成功能片(FOG)；

6).通过翻版贴合机进行小粒光学胶(OCA)贴合；

7).用真空贴合机将功能片(FOG)和玻璃盖板(COVER GLASS)组合成触摸屏(TP)。

丝印过程涉及网版、菲林等制作，工序繁琐，不利于生产效率的提高。由于单层多点触摸屏对线宽线距要求比较高，印刷的线宽和线距最小需要做到0.16mm，很多单层多点触摸屏需要做到0.1mm甚至更小，对传统丝印设备及相关材料的操作要求非常高，难以满足如此高的加工精度要求。并且由于精度要求较高，在作业过程中残次品的出现几率也非常高，而且基材只能使用玻璃基材，难以对PET基材上的ITO进行加工。

发明内容

基于此，有必要提供一种加工精度高且有利于提高生产效率的单层多点式PET基材导电膜及无印刷触摸屏的制作方法。

一种单层多点式PET基材导电膜的制作方法，包括如下步骤：

步骤一：对设有ITO层的PET基材进行缩水定型处理；

步骤二：对缩水定型处理后的PET基材上的ITO层通过激光蚀刻机蚀刻预设的导电图案，得到具有预设导电图案的单层多点式PET基材导电膜。

在其中一个实施例中，在所述步骤一中，具体是将所述设有ITO层的PET基材于150℃±10℃下烘干处理60min±20min，以使所述PET基材缩水定型。

由于PET基材上的ITO层一般是低温镀膜工艺形成的，对设有ITO层的PET基材进行缩水定型至少有两个作用：

1).可以让PET基材老化定型，以便于在后续加工过程中不会发生形状变化；

2).使ITO层在高温条件下进行重结晶(ITO层的ITO薄膜在溅镀时是在较低温度条件下制备的，因此ITO多数是处于非结晶状态的，经过高温处理时，可以使ITO重结晶，因而可以降低其表面方阻值，使ITO薄膜结构更稳定，寿命长。

在其中一个实施例中，在所述步骤二中，具体包括如下步骤：

通过对应触控方案的单层多点生成工具制作触控方案的内部图案；

通过画图软件对所述内部图案进行引线出pin角完善，做出完整的单层多点触控方案的激光蚀刻图纸；