[发明专利]一种电容去离子装置及其再生方法

权利要求书

1.一种电容去离子装置，包括脱盐装置管体(1)，在脱盐装置管体(1)的一端设有含金属离子污水的进水口(11)，在脱盐装置管体(1)内部设有一布水器(141)，布水器(141)一端封闭，该封闭端靠近进水口(11)，其另一端设有出水口(12)，布水器(141)的表面均匀设有复数个进水孔(141)；所述布水器(141)串接多个平行设置的电极片(15)；含金属离子的污水依次通过进水口(11)、脱盐装置管体(1)与其最近的电极片(15)之间的垂直水道(16)、脱盐装置管体(1)与多个电极片(15)之间的水平水道(17)、相邻两个电极片(15)之间的垂直水道、布水器(141)的进水孔(141)以及布水器(141)的出水口(12)，其特征在于：在脱盐装置管体(1)上还设有直排口(13)，其将脱盐装置管体(1)所储存浓度高的污水直接放空，所述浓度高的污水为电极片(15)充分放电后在脱盐装置管体(1)形成的污水。

2.根据权利要求1所述电容去离子装置，其特征在于：所述直排口(13)设有阀门(131)。

3.根据权利要求1或2所述电容去离子装置，其特征在于：所述多个电极片(15)除了最外端的两个为单面电极，其他的电极片(15)都为双面电极。

4.一种电容去离子装置的再生方法，包括以下步骤：

步骤1、电容去离子装置通电吸附污水中的金属离子完成后，通过增加短接放电时间使得金属离子与电极片进行充分分离，形成含金属离子浓度高的浓水；

步骤2、将电容去离子装置中的浓水直接放空。

5.根据权利要求4所述电容去离子装置的再生方法，其特征在于：还包括步骤3、对电容去离子装置进行补水。

6.根据权利要求5所述电容去离子装置的再生方法，其特征在于：步骤3中的补水来源可以来自电容去离子装置处理后的污水。

7.根据权利要求1-6中任何一项所述电容去离子装置的再生方法，其特征在于：步骤1中的通电吸附时间＝短接放电静置时间+放空的时间+补水的时间。