[发明专利]一种偏光片及其制备方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 201710432904.5 申请日: 2017-06-09
公开(公告)号: CN107037627A 公开(公告)日: 2017-08-11
发明(设计)人: 谢涛峰;贺晓悦 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G02F1/1335;G06F3/041
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 偏光 及其 制备 方法 显示装置
【说明书】:

技术领域

发明显示技术领域,尤其涉及一种偏光片及其制备方法、显示装置。

背景技术

随着显示技术的发展,触控技术已经日益普及,并被广大消费者接受成为日常办公、学习娱乐的常用工具。

常见的触控结构包括:in cell touch(内嵌式触控)、on cell touch(表面式触控)、OGS(One Glass Solution,简称一体化触控)、GG(Glass-Glass)、GF(Glass-Film)、GFF(Glass-Film-Film)等等。

其中,in cell touch和on cell touch是将触控结构与显示面板集成于一体,若触控结构出现问题,则整个显示面板都将报废。

OGS、GG、GF、GFF等结构的显示装置包括显示面板、通过粘结层与显示面板粘结的偏光片、以及触控层。以OGS为例,如图1(a)所示,触控层30包括保护玻璃(Cover Glass)33、设置于保护玻璃33靠近显示面板10一侧的触控结构32、以及设置于触控结构32与偏光片20之间的光学胶层31;如图1(b)所示,触控层30包括保护玻璃33、设置于保护玻璃33靠近显示面板10一侧的两层触控结构32、位于两层触控结构32间的绝缘层34、以及设置于靠近显示面板10侧的触控结构32与偏光片20之间的光学胶层31。由此可以看出,触控层30为层叠设置的多层结构,由于其层叠数目较多,不利于产品的薄型化设计,且不论是生产、或者因其中的触控结构出现问题需对整个触控层30进行重工(rework),都因其层叠数目较多,使得工艺难度较大。

发明内容

本发明的实施例提供一种偏光片及其制备方法、显示装置,通过将触控电极设置于偏光片上,可以改善现有触控结构重工难的问题,当OGS、GG、GF、GFF等结构应用于显示装置时,还可以降低显示装置的厚度。

为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:

第一方面,提供一种偏光片,包括偏光片本体,还包括制作在所述偏光片本体上的触控结构。

优选的,所述偏光片本体为柔性膜层。

优选的,所述触控结构位于所述偏光片本体的一侧;或者,所述触控结构中的第一触控电极与第二触控电极分别位于所述偏光片本体的两侧。

第二方面,提供一种显示装置,包括显示面板,还包括通过粘结层贴附在所述显示面板显示侧的第一方面所述的偏光片。

优选的,所述显示装置还包括设置于所述偏光片远离所述显示面板一侧的保护层。

进一步优选的,所述保护层为柔性保护膜;所述偏光片本体为柔性膜层;所述显示面板为柔性显示面板。

优选的,所述触控结构位于所述偏光片本体靠近所述显示面板一侧。

第三方面,提供一种如第一方面所述的偏光片的制备方法,包括在偏光片本体上制作触控结构。

优选的,在偏光片本体上制作触控结构,具体包括:在所述偏光片本体上形成导电薄膜,并在所述导电薄膜上方形成光刻胶;利用掩模板对所述光刻胶进行曝光,显影后形成第一光刻胶图案;对所述导电薄膜进行刻蚀,形成包括第一触控电极和第二触控电极的图案;去除所述第一光刻胶图案。

或者,在所述偏光片本体上形成导电薄膜,并在所述导电薄膜上方形成光刻胶;利用掩模板对所述光刻胶进行曝光,显影后形成第二光刻胶图案;对所述导电薄膜进行刻蚀,形成包括第一触控电极和第二触控电极的图案;去除所述第二光刻胶图案;在所述第一触控电极与所述第二触控电极交叉的区域上方形成绝缘块;在所述绝缘块上方形成搭桥。

或者,在所述偏光片本体上形成导电薄膜,并在所述导电薄膜上方形成光刻胶;利用掩模板对所述光刻胶进行曝光,显影后形成第三光刻胶图案;对所述导电薄膜进行刻蚀,形成包括第一触控电极和第二触控电极的两层图案;去除所述第三光刻胶图案。

其中,第一触控电极与第二触控电极之间相互绝缘。

优选的,所述方法还包括:在所述偏光片本体上制作所述触控结构之前,对所述偏光片本体进行退火处理。

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