[发明专利]挠性覆铜板电解铜箔用添加剂的制备方法、制品及其应用在审

专利信息
申请号: 201710293810.4 申请日: 2017-04-28
公开(公告)号: CN107236973A 公开(公告)日: 2017-10-10
发明(设计)人: 陈韶明 申请(专利权)人: 东莞华威铜箔科技有限公司;安徽华威铜箔科技有限公司
主分类号: C25D1/04 分类号: C25D1/04;C25D3/38;C25D7/06
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 代理人: 陈正兴
地址: 523000 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 挠性覆 铜板 电解 铜箔 添加剂 制备 方法 制品 及其 应用
【说明书】:

技术领域

发明涉及电解铜箔生产制造技术领域,具体涉及生产5um挠性覆铜板电解铜箔用添加剂的制备方法、制品及其应用。

背景技术

挠性覆铜板(FCCL)具有薄、轻和可挠性的特点。用FCCL为基板材料的FPC被广泛用于手机、数码相机、数码摄像机、汽车卫星方向定位装置、液晶电视、笔记本电脑等电子产品中。

FCCL除具有薄、轻和可挠性的优点外,用聚酰亚胺基膜的FCCL,还具有电性能、热性能、耐热性优良的特点。它的较低介电常数(Dk)性,使得电信号得到快速的传输。良好的热性能,可使得组件易于降温。较高的玻璃化温度(Tg)可使得组件在更高的温度下良好运行。由于FCCL大部分的产品,是以连续成卷状形态提供给用户,因此,采用FCCL生产印制电路板,利于实现FPC的自动化连续生产和在FPC上进行元器件的连续性的表面安装。

挠性覆铜板用的导体材料,绝大多数是采用铜箔,综合其自身特点,做为主要导电传输载体的铜箔必须有耐高温,高传输性、高延展性、高抗剥离等性能,只有匀一性低轮廓,高抗拉强度、高延伸率,高置密,且粘贴性强的电解铜箔材能同时满足。

国际方面同时面临着资源短缺及减排保护环境两者现存实际难题,新科技的兴起及发展,多功能高密度电子数码产品增强数码产品与民众日常生活的融入;便捷了日常生活同时增加了娱乐氛围。多功能高密度电子数码产品;只能向精细、高密度集合发展。本发明生产出的5um挠性覆铜板电解铜箔属超薄铜箔所制备出的挠性覆铜板,其本身性能在满足电子数码产品电性能外,单位使用量与常规挠性覆铜板比较,相对减少较多;即减少成本,同时减入了资源的投入,间接保护了环境。

发明内容

针对上述问题,本发明的目的在于,提供一种挠性覆铜板电解铜箔用添加剂的制备方法,其步骤简便,条件易于控制,成本低。

本发明的目的还在于,提供采用上述方法制备的挠性覆铜板电解铜箔用添加剂,将其应用制备挠性覆铜板电解铜箔,尤其是用于生产5um电解铜箔.

为实现上述目的,本发明采用的技术方案是:

一种挠性覆铜板电解铜箔用添加剂的制备方法,包括以下步骤:

(1)制备以下原料:

3-巯基丙烷磺酸钠(ZPS)

聚二硫二丙烷磺酸钠(SPS)

硫脲(N)

醇硫基丙烷磺酸钠(HP)

聚乙二醇12000#(PEG)

羟乙基纤维素6000#(HEC)

其质量比例为:1:1.5:1:1.5:1:2;

(2)分别将3-巯基丙烷磺酸钠(ZPS),聚二硫二丙烷磺酸钠(SPS),硫脲(N),醇硫基丙烷磺酸钠(HP),聚乙二醇12000#(PEG),聚乙二醇12000#(PEG),羟乙基纤维素6000#(HEC)溶于250mL去离子纯水中,分别得到溶液A、溶液B、溶液C、溶液D、溶液E、溶液F;

(3)将步骤(2)制得的溶液A、溶液B、溶液C、溶液D、溶液E、溶液F加入到5L恒温搅拌盅中,再加入去离子水2L在恒温55至60度环境下搅拌30分钟,得到混合液;

(4)将步骤(3)制得的混合液用去离子水定量稀释到10L,完成添加剂制备。

一种挠性覆铜板电解铜箔用添加剂,其包括以下原料:3-巯基丙烷磺酸钠,聚二硫二丙烷磺酸钠,硫脲,醇硫基丙烷磺酸钠,聚乙二醇12000#,羟乙基纤维素6000#,其质量比例为:1:1.5:1:1.5:1:2。

一种挠性覆铜板电解铜箔用添加剂的应用,其用于制备5um挠性电解铜箔。

所述挠性覆铜板电解铜箔用添加剂的应用,其用于采用电沉积工艺,制备5um挠性电铜箔;电解液直流电沉积工艺,电解过程中在硫酸铜净液加入挠性电解铜箔用添加剂,通过电场的作用下,在循环转动的钛阴极辊上沉积出金属铜,由机组的剥离辊剥离后,经防氧化处理后收卷,其中电解过程中电解液铜含量80-120g/L,硫酸含量90-130g/L,温度控制在45-60度,向电解液中添加挠性电解铜箔用添加剂,使电解液流量为60-90m3/H,电流密度4500-12000A/M2条件下进行直流电沉积;电解液添加的混合添加剂包括3-巯基丙烷磺酸钠,聚二硫二丙烷磺酸钠,硫脲,醇硫基丙烷磺酸钠,聚乙二醇12000#,羟乙基纤维素6000#,添加剂流量为100-300mL/Min。

与现有技术相比具有的优点:

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