[发明专利]具有密封结构的染料池有效

专利信息
申请号: 201710192046.1 申请日: 2017-03-28
公开(公告)号: CN106848820B 公开(公告)日: 2023-08-18
发明(设计)人: 陈志理;张元芫 申请(专利权)人: 核工业理化工程研究院
主分类号: H01S3/08 分类号: H01S3/08;H01S3/02
代理公司: 北京润捷智诚知识产权代理事务所(普通合伙) 11831 代理人: 安利霞
地址: 300180 *** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 具有 密封 结构 染料
【权利要求书】:

1.一种具有密封结构的染料池,包括染料池体(3),染料池体(3)通光的两侧均设置有镜片(1),镜片(1)外部套装有盖子(4),盖子(4)通过螺钉(5)与染料池体(3)固定连接,其特征在于:所述镜片(1)为凸型光学镜片,所述镜片(1)底部四周至少一对对侧形成凸台(11),镜片(1)下端外部套设密封圈(2),所述密封圈(2)设置于凸台(11)上;

所述染料池体(3)为长方体型主池体(31)和设置于主池体(31)两端的连接部(32)形成,主池体(31)中间形成与镜片(1)结构相同的通光通孔(33),通光通孔(33)宽方向的两孔壁上均对称设置上下两组台阶结构,靠近主池体(31)端面的为密封圈放置阶梯(34),靠近主池体(31)中心的为镜片放置阶梯(35);连接部(32)中间形成通孔(36),所述镜片(1)放置于镜片放置阶梯(35)上,且放置后凸台(11)的上端面与密封圈放置阶梯(34)的上端面平齐;

所述盖子(4)为长方框型结构,上端边缘形成凸缘(41),螺钉(5)将凸缘(41)与主池体(31)上端面固定;盖子(4)下端伸入通光通孔(33),下端面与密封圈(2)和密封圈放置阶梯(34)接触。

2.根据权利要求1所述的一种具有密封结构的染料池,其特征在于:所述镜片(1)为方形或圆形。

3.根据权利要求1所述的一种具有密封结构的染料池,其特征在于:所述镜片放置阶梯(35)宽度大于密封圈放置阶梯(34)。

4.根据权利要求1所述的一种具有密封结构的染料池,其特征在于:所述上下两片镜片(1)相邻面间的垂直距离与通孔(36)的孔径相配合。

5.根据权利要求1所述的一种具有密封结构的染料池,其特征在于:所述盖子(4)的形状尺寸与通光通孔(33)的形状尺寸相配合。

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