[发明专利]一种构造弯曲驻波操控粒子沿弯曲轨迹运动的方法有效

专利信息
申请号: 201710136661.0 申请日: 2017-03-09
公开(公告)号: CN106934234B 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 章东;林洲;郭霞生;屠娟 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: G06F17/10 分类号: G06F17/10
代理公司: 江苏瑞途律师事务所 32346 代理人: 蒋海军
地址: 210093 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 构造 弯曲 驻波 操控 粒子 轨迹 运动 方法
【权利要求书】:

1.一种构造弯曲驻波操控粒子沿弯曲轨迹运动的方法,其步骤为:

步骤一、选择半贝塞尔函数作为目标函数,并给出该弯曲非衍射解的函数图像;

步骤二、将弯曲非衍射解的函数图像简化为相邻区间相位差为π的二极化分布,并将该二极化分布应用栅格结构实现;具体为:

(1)每一段栅格结构的宽度L与函数的区间宽度相等;

(2)栅格结构的厚度h需满足(h/λ0-h/λ1)=0.5,λ0与λ1分别为介质与栅格结构材料中声波波长,使之在栅格结构的出射面上满足相位差π;

步骤三、调整栅格结构的厚度h,具体过程为:将厚度h以h/100为间隔增加或减少,直到在中间区域的弯曲驻波场波腹与波节处声压级差至少大于3dB;减弱所生成弯曲声束的无衍射性,通过两束弱无衍射弯曲声束在操控区域形成弯曲的驻波场;调节两束声束的间隔d和无衍射性,调节驻波场的形态;调节两束声束的间隔d的具体过程为:将间隔d以d/100为间隔增加或减少,直到在两束弯曲声束的交汇区域的弯曲驻波场形态满足需要;

步骤四、分析声辐射力分布,进一步调节声束间隔d和栅格厚度h;具体为:声辐射力的分布需满足在稳态时能够将微粒束缚在波节或波腹处,如果不满足要求需照步骤三反复微调声束间隔d和栅格厚度h,优化驻波场分布;

步骤五、根据上述步骤所得到的参数制作样品,调节两束声束的相对相位,改变驻波势阱,操控粒子沿弯曲轨迹运动。

2.根据权利要求1所述的一种构造弯曲驻波操控粒子沿弯曲轨迹运动的方法,其特征在于:两支换能器位于同一侧,通过加工栅格结构实现操控粒子沿弯曲轨迹运动。

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