[发明专利]显示设备及其制造方法

权利要求书

1.一种制造显示设备的方法，所述方法包括以下步骤：

设置基底；

在所述基底上方的显示区中形成限定开口部分的显示单元；

形成薄膜包封层以密封所述显示单元，所述薄膜包封层包括至少一个无机膜；

在所述薄膜包封层上方形成触摸电极；

形成覆盖所述触摸电极的触摸绝缘膜，使得在所述开口部分中的所述基底上方顺序地堆叠和形成所述薄膜包封层的所述至少一个无机膜和所述触摸绝缘膜；

通过去除所述触摸绝缘膜的部分形成触摸接触孔以暴露所述触摸电极的部分；以及

在所述形成所述触摸接触孔的步骤期间去除所述触摸绝缘膜的形成在所述开口部分中的部分和所述薄膜包封层的所述至少一个无机膜的形成在所述开口部分中的部分以暴露所述基底的部分。

2.根据权利要求1所述的方法，所述方法还包括通过去除所述基底的暴露部分的部分在所述基底中形成孔。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述薄膜包封层还包括有机膜，所述至少一个无机膜具有比所述有机膜的面积大的面积，

其中，所述触摸绝缘膜和所述至少一个无机膜在所述开口部分中在所述有机膜的边缘处彼此接触。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，在所述形成所述触摸接触孔的步骤期间去除所述触摸绝缘膜和所述至少一个无机膜的在所述开口部分中在所述有机膜的边缘处彼此接触的部分。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述触摸绝缘膜和所述至少一个无机膜的位于所述开口部分中的去除的部分具有比所述孔的宽度大的宽度。

6.根据权利要求2所述的方法，所述方法还包括在所述触摸绝缘膜上方形成触摸线以通过所述触摸接触孔接触所述触摸电极。

7.根据权利要求2所述的方法，其中，所述开口部分具有比在所述基底中的所述孔的宽度大的宽度。

8.根据权利要求2所述的方法，其中，在所述形成所述触摸接触孔的步骤期间同时去除所述触摸绝缘膜的形成在所述开口部分中的部分和所述至少一个无机膜的形成在所述开口部分中的部分，

其中，所述触摸绝缘膜包括无机材料。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述薄膜包封层还包括至少一个有机膜，所述至少一个无机膜具有比所述至少一个有机膜的面积大的面积，使得所述触摸绝缘膜和所述至少一个无机膜在所述开口部分中在所述至少一个有机膜的边缘处彼此接触。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述去除所述触摸绝缘膜的所述部分和所述至少一个无机膜的所述部分的步骤包括干法刻蚀工艺。

11.根据权利要求2所述的方法，其中，所述触摸绝缘膜包括有机材料，

其中，所述薄膜包封层还包括有机膜，所述至少一个无机膜具有比所述有机膜的面积大的面积，

其中，所述触摸绝缘膜和所述至少一个无机膜形成为在所述开口部分中在所述有机膜的边缘处彼此接触，以及

其中，顺序地去除形成在所述开口部分中的所述触摸绝缘膜和所述无机膜。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，通过光刻工艺去除所述触摸绝缘膜，

其中，通过干法刻蚀工艺去除所述无机膜。

13.根据权利要求2所述的方法，所述方法还包括在去除所述触摸绝缘膜的形成在所述开口部分中的所述部分和所述薄膜包封层的所述至少一个无机膜的形成在所述开口部分中的所述部分的期间，在所述孔的边缘处形成阻挡件。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，所述阻挡件包括包含所述薄膜包封层的第一层以及包含所述触摸绝缘膜的第二层。