[发明专利]光束均匀化机构、照明光学系统、受光光学系统、参照光学系统及测色计有效
申请号: | 201680010998.0 | 申请日: | 2016-02-02 |
公开(公告)号: | CN107250743B | 公开(公告)日: | 2019-07-05 |
发明(设计)人: | 兴津昌广 | 申请(专利权)人: | 柯尼卡美能达株式会社 |
主分类号: | G01J3/50 | 分类号: | G01J3/50;G01J3/10;G02B5/02 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 青炜;苏琳琳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光束 均匀 机构 照明 光学系统 参照 测色计 | ||
1.一种测色用的光束均匀化机构,其中,具备:
基材,其形成有空间,具有规定所述空间的内表面,由白色树脂构成,反射光束;和
被膜,其是通过将透明的消光涂料涂装于所述内表面而形成的,使光束漫射。
2.根据权利要求1所述的光束均匀化机构,其中,
所述白色树脂包含热塑性树脂。
3.根据权利要求2所述的光束均匀化机构,其中,
所述热塑性树脂为丙烯酸树脂、聚碳酸酯树脂或者液晶聚合物树脂。
4.根据权利要求1所述的光束均匀化机构,其中,
所述白色树脂包含热固性树脂。
5.根据权利要求4所述的光束均匀化机构,其中,
所述热固性树脂为不饱和聚酯树脂或者环氧树脂。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的光束均匀化机构,其中,
所述透明的消光涂料包含消光剂,
所述消光剂包含选自二氧化硅的微粒、碳酸钙的微粒以及磷酸钙的微粒中的一种以上。
7.根据权利要求1~5中任一项所述的光束均匀化机构,其中,
所述基材具有外表面,
所述光束均匀化机构还具备覆盖所述外表面的遮光物。
8.根据权利要求7所述的光束均匀化机构,其中,
所述遮光物是通过将涂料涂装于所述外表面而形成的遮光膜。
9.根据权利要求7所述的光束均匀化机构,其中,
所述遮光物是与所述外表面接触的遮光部件。
10.根据权利要求1~5、8、9中任一项所述的光束均匀化机构,其中,
所述空间为球状。
11.一种照明光学系统,其中,具备:
放射光束的光源;和
使被放射的光束均匀化的权利要求1~10中任一项所述的光束均匀化机构。
12.一种测色计,其中,具备:
权利要求11所述的照明光学系统;和
受光光学系统。
13.一种受光光学系统,其中,具备:
使被试样反射的反射光的光束或者透射了试样的透射光的光束均匀化的权利要求1~10中任一项所述的光束均匀化机构;和
接收被均匀化的反射光的光束或者被均匀化的透射光的光束并输出测定结果的受光机构。
14.一种测色计,其中,具备:
照明光学系统;和
权利要求13所述的受光光学系统。
15.一种参照光学系统,其中,具备将被放射的光束分离成照明光的光束与参照光的光束的光束分离机构,
所述光束分离机构具备权利要求1~10中任一项所述的光束均匀化机构,
所述光束均匀化机构使所述参照光的光束均匀化。
16.一种测色计,其中,具备:
照明光学系统;
权利要求15所述的参照光学系统;以及
受光光学系统。
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