[实用新型]激光整形压缩装置有效

专利信息
申请号: 201620077883.0 申请日: 2016-01-27
公开(公告)号: CN205374887U 公开(公告)日: 2016-07-06
发明(设计)人: 李成方;吴新民;母林;张可根 申请(专利权)人: 成都成亿光电科技有限公司
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09;G03B21/20
代理公司: 成都宏顺专利代理事务所(普通合伙) 51227 代理人: 周永宏
地址: 610041 四川*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 激光 整形 压缩 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型属于激光显示技术领域,具体涉及一种激光整形压缩装置。

背景技术

激光投影机是使用激光光束来透射出画面。同传统的显示光源相比,激光具有很好的单色性、方向性,使用激光三基色作为显示光源所表示的颜色,包含了人眼所能分辨颜色的90%,其色度三角形的面积是传统磷显示的将近三倍。用激光显示色彩丰富、饱和度高、对比度强、与各种视频信号都有好的匹配性。

目前激光投影机采用的光源是激光二极管。由于单颗激光二极管产生光亮度较低,无法满足激光投影机的要求,所以常规激光机采用多颗激光二极管排列组合成阵列以增加光亮度。由于散热和结构的需要,激光二极管之间必须留有一定的间隙,这就形成了一个有分散的单个光斑组合成的整体光斑区域,为适应光路的需要,往往需要对这个整体光斑区域进行压缩处理。常规的压缩处理方式是采用特定排列的反光镜,通过一次反射压缩光斑区域的某一个方向,以消除光斑该方向的间隙,但无法压缩整体光斑区域的另一个方向,此时经一次压缩后的整体光斑区域呈现出不均匀的条状光斑,后续的均匀化处理较困难。若要压缩整体光斑的另一方向,需要再使用一组特定排列的反光镜经二次反射才能实现,但二次反射会造成光效率损失,现有技术较少采用。

实用新型内容

本实用新型的目的是解决上述问题,提供一种结构紧凑、光斑均匀且亮度高的激光整形压缩装置。

为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案是:一种激光整形压缩装置,包括第一光源、第二光源,以及对向交错设置的第一反射装置和第二反射装置,第一光源和第二光源分别对第一反射装置和第二反射装置发出入射激光,再经第一反射装置和第二反射装置沿同一方向反射并分别形成第一光斑阵列和第二光斑阵列,所述第一光斑阵列和第二光斑阵列交错排列。

优选地,所述第一反射装置和第二反射装置为结构相同且对向交错穿插设置的反光镜座,所述反光镜座包括底座和若干个间隔并列设置于底座上的反光板,所述反光板两两之间的底座上设置有若干个通光孔。

优选地,所述第一光源和第二光源为结构相同的激光器阵列,分别设置于第二反射装置和第一反射装置外侧,第一光源、第二光源发出的入射激光分别通过第二反射装置、第一反射装置上的通光孔,再分别射至第一反射装置、第二反射装置的反光板上。

优选地,所述反光板为阶梯状,所述阶梯状平台与平台的斜面粘贴反光层,所述反光层与入射激光成45°夹角。

优选地,所述反光板为平坦斜面,所述平坦斜面上粘贴若干个反光层,所述反光层与入射激光成45°夹角。

优选地,所述反光板与底座一体成型。

本实用新型的有益效果是:本实用新型提供的激光整形压缩装置,具有第一光源和第二光源两组光源,再分别采用对向交错设置的第一反射装置和第二反射装置对其发出的入射激光进行反射,形成交错排布的第一光斑阵列和第二光斑阵列。第一光斑阵列和第二光斑阵列经一次反射已消除某一方向光斑之间的间隙,两组光斑阵列交错排布之后,相互填充了彼此光斑之间另一方向的间隙,从而形成了整体均匀分布的光斑区域。相较于现有技术,本实用新型不经二次反射即可得到均匀分布的光斑区域,有效提高了光效率,且因同时采用两组光源,显著提升光亮度。该装置可应用于多种机械和设备中,当应用于投影设备时可使画质更加均匀清晰。该激光整形压缩装置整体结构紧凑、体积小,适用性强,值得在业内推广。

附图说明

图1是本实用新型激光整形压缩装置立体结构示意图;

图2是本实用新型激光整形压缩装置主视图;

图3是本实用新型激光整形压缩装置侧视图;

图4是本实用新型激光器阵列结构示意图;

图5是本实用新型反光镜座立体结构示意图;

图6是本实用新型反光镜座主视图;

图7是本实用新型反光镜座俯视图;

图8是本实用新型反光镜座侧视图;

图9是本实用新型反光镜座底视图。

附图标记说明:1、第一反射装置;2、第二反射装置;3、第一光源;4、第二光源;5、光斑;6、底座;7、反光板;71、反光层;72、凹槽;8、通光孔;9、激光二极管。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型做进一步的说明:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都成亿光电科技有限公司,未经成都成亿光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201620077883.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top