[发明专利]光学隔离器及方法有效
| 申请号： | 201611190237.6 | 申请日： | 2016-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN106773148B | 公开（公告）日： | 2019-07-30 |
| 发明（设计）人： | 黄凌雄;张戈;李丙轩;廖文斌 | 申请（专利权）人： | 中国科学院福建物质结构研究所 |
| 主分类号： | G02F1/09 | 分类号： | G02F1/09;G02F1/21 |
| 代理公司： | 北京元周律知识产权代理有限公司 11540 | 代理人： | 王惠 |
| 地址： | 350002 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 隔离器 方法 | ||
1.一种光学隔离器，其特征在于，包括法布里-珀罗效应干涉片和法拉第旋光器，光束依次垂直射入所述法布里-珀罗效应干涉片和法拉第旋光器；
所述法布里-珀罗效应干涉片为各向异性光学晶体；
所述法拉第旋光器置于与光路同方向的磁场中，所述磁场强度设置为能使通过其的偏振光的偏振方向旋转40～50°。
2.根据权利要求1所述的光学隔离器，其特征在于，所述法布里-珀罗效应干涉片包括YVO4晶体、方解石、BBO晶体、KTP晶体、KDP晶体、LBO晶体、PbWO4晶体中至少的一种。
3.根据权利要求1所述的光学隔离器，其特征在于，所述法布里-珀罗效应干涉片具有两个平行的工作光学端面，所述工作光学端面镀有对工作波长高反射的介质膜。
4.根据权利要求1所述的光学隔离器，其特征在于，所述法拉第旋光器置于与光路同方向的磁场中，所述磁场强度设置为能使通过其的偏振光的偏振方向旋转45°。
5.根据权利要求1所述的光学隔离器，其特征在于，所述法拉第旋光器采用具有磁光效应的玻璃、晶体或非晶光学陶瓷。
6.根据权利要求1所述的光学隔离器，其特征在于，所述法拉第旋光器具有两个光学端面，所述光学端面具有对工作波长增透的介质镀膜。
7.一种光学隔离方法，其特征在于，将光线垂直入射法布里-珀罗效应干涉片和法拉第旋光器，所述法拉第旋光器置于与光路同方向的磁场中，所述磁场强度设置为能使通过其的初次入射偏振光通过后再次沿磁场方向入射并通过后的偏振方向与所述初次入射偏振光的偏振方向垂直，从而不再满足法布里-珀罗效应干涉条件，实现光学隔离；
所述法布里-珀罗效应干涉片为各向异性光学晶体。
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