[发明专利]一种半透过半反射防刮花镜面玻璃及制备工艺

说明书

技术领域

本发明涉及镜面玻璃，尤其涉及一种半透过半反射防刮花镜面玻璃及制备工艺。

背景技术

目前镜面玻璃通常采用金属膜层制作，是一种高反射率的不透明反光镜，另一种是半透明的镜面玻璃，采用单一层介质膜，550nm透过率60—70％反射率30％以下，或三层介质膜制作的半透玻璃，反射率380—450nm反射45—60％，500—780nm透过在35％。透过颜色黄橙色。目前金属镜面玻璃属于高反射镜，不具有透过功能，不适合应用于显示屏使用；单层镀制的普通半透玻璃反射率低,一般都在30％以下，反射效果不佳不具有隐藏功能。近期出现的三层结构的蓝镜，反射率在380—500nm比较高，反射蓝光颜色，透过颜色为黄橙色或是粉红色，影响了高清视屏的清晰颜色鲜艳效，也不适合用于显示屏。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于，针对现有技术的不足，提供一种半透过半反射防刮花镜面玻璃及制备工艺，用以实现在没有背光时具有银镜的高反射效果，在背光光源下具有透明功能，进而取得多功能、多用途等有益效果。

为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案。

一种半透过半反射防刮花镜面玻璃，其包括有玻璃基板，所述玻璃基板的表面由下至上依次镀制有第一氧化铌层、第一二氧化硅层、第二氧化铌层、第二二氧化硅层、第三氧化铌层和氮化碳层。

优选地，所述第一氧化铌层的厚度为20nm～22nm，所述第二氧化铌层的厚度为70nm～74nm，所述第三氧化铌层的厚度为56nm～60nm。

优选地，所述第一二氧化硅层的厚度为23nm～27nm，所述第二二氧化硅层的厚度为79nm～84nm。

优选地，所述氮化碳层的厚度为8nm～12nm。

一种半透过半反射防刮花镜面玻璃制备工艺，其包括有如下步骤：步骤S1，准备玻璃基板；步骤S2，在玻璃基板的表面镀制第一氧化铌层；步骤S3，在第一氧化铌层的表面镀制第一二氧化硅层；步骤S4，在第一二氧化硅层的表面镀制第二氧化铌层；步骤S5，在第二氧化铌层的表面镀制第二二氧化硅层；步骤S6，在第二二氧化硅层的表面镀制第三氧化铌层；步骤S7，在第三氧化铌层的表面镀制氮化碳层。

优选地，所述步骤S2至步骤S7均采用磁控溅射设备镀制第一氧化铌层、第一二氧化硅层、第二氧化铌层、第二二氧化硅层、第三氧化铌层和氮化碳层。

优选地，所述磁控溅射设备为立式多箱体连续磁控反应溅射镀膜线，所述磁控溅射设备根据镀膜传送方向，按各膜层排列顺序依次布置靶位，根据对应膜层的厚度范围计算并配置使用阴极靶的数量，组成连续的镀膜阴极箱体，通过传送玻璃基板，使得玻璃基板逐一通过各靶位而完成各膜层的镀膜加工。

优选地，镀制第三氧化铌层的靶位与镀制氮化碳层的靶位之间形成有氧气隔离墙。

优选地，利用分子泵驱使氧气流动而形成所述氧气隔离墙。

优选地，所述第一氧化铌层的厚度为20nm～22nm，所述第二氧化铌层的厚度为70nm～74nm，所述第三氧化铌层的厚度为56nm～60nm，所述第一二氧化硅层的厚度为23nm～27nm，所述第二二氧化硅层的厚度为79nm～84nm，所述氮化碳层的厚度为8nm～12nm。

本发明公开的半透过半反射防刮花镜面玻璃及制备工艺，其采用了分束镜的原理，使得380nm～780nm可见入射光在镀层上可以反射50％左右的光线，从而呈现镜面效果，同时入射光线在背面穿透率也达到50％左右。同时，本发明还结合了钻面玻璃技术，在第三氧化铌层表面镀制了CxNx防刮保护层，从而增加了镜面的保护作用。此外，本发明颜色透明，颜色透过显示失真率小，适合显示屏使用。

附图说明

图1为本发明半透过半反射防刮花镜面玻璃的结构示意图。

图2为本发明半透过半反射防刮花镜面玻璃制备工艺的流程图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作更加详细的描述。

本发明公开了一种半透过半反射防刮花镜面玻璃，如图1所示，其包括有玻璃基板1，所述玻璃基板1的表面由下至上依次镀制有第一氧化铌层2、第一二氧化硅层3、第二氧化铌层4、第二二氧化硅层5、第三氧化铌层6和氮化碳层7。