[发明专利]侧面泵浦碱金属蒸气激光器密闭管腔

权利要求书

1.一种侧面泵浦碱金属蒸气激光器密闭管腔，其特征在于，包括：碱金属蒸气管腔侧壁(6)和位于碱金属蒸气管腔(6)的两侧端窗(10)，碱金属蒸气管腔侧壁(6)的内壁面设置打毛区域(7)，打毛区域(7)做打毛处理，相邻的打毛区域(7)之间未打毛的区域形成半导体泵浦光束入射用区域，所述打毛区域(7)表面镀高反膜(8)，形成高反膜区域(9)。

2.如权利要求1所述的侧面泵浦碱金属蒸气激光器密闭管腔，其特征在于，所述高反膜(8)的内侧空间设置工作介质。

3.如权利要求2所述的侧面泵浦碱金属蒸气激光器密闭管腔，其特征在于，所述工作介质为碱金属增益介质。

4.如权利要求1所述的侧面泵浦碱金属蒸气激光器密闭管腔，其特征在于，所述密闭管腔内部充入缓冲气体，缓冲气体为氦气、甲烷、乙烷或者为上述气体的混合气体。

5.一种侧面泵浦碱金属蒸气激光器系统，其特征在于，包括：如上权利要求1-4中任一项所述的密闭管腔，套设在密闭管腔外部的圆筒式加热-温控环(4)，圆筒式加热-温控环(4)上开设有半导体泵浦光束射入口(5)，设置在每个半导体泵浦光束射入口(5)外侧的激光光源系统；半导体泵浦光束射入口(5)与密闭管腔内壁上设置的半导体泵浦光束入射用区域位置相对应。

6.如权利要求5所述的侧面泵浦碱金属蒸气激光器系统，其特征在于，每个激光光源系统包括半导体激光泵浦光源(1)、布拉格体光栅(2)和发散角控制光学透镜组(3)。

7.如权利要求5所述的侧面泵浦碱金属蒸气激光器系统，其特征在于，所述激光光源系统的数量以设置的半导体激光侧面泵浦结构的需要为准。

8.如权利要求5所述的侧面泵浦碱金属蒸气激光器系统，其特征在于，所述激光器系统采用三方向泵浦方式，设置三个激光光源系统，三个激光光源系统均匀分布在圆筒式加热-温控环(4)外部。

9.如权利要求5所述的侧面泵浦碱金属蒸气激光器系统，其特征在于，所述圆筒式加热-温控环(4)和碱金属蒸气管腔侧壁(6)之间垫入高效传热介质。

10.如权利要求5所述的侧面泵浦碱金属蒸气激光器系统，其特征在于，所述半导体泵浦光束射入口(5)为设置在圆筒式加热-温控环(4)侧表面的细长形狭缝，以透过半导体激光的泵浦能量。