[发明专利]一种添加Ti元素制备CuW合金的方法有效
申请号: | 201611043930.0 | 申请日: | 2016-11-24 |
公开(公告)号: | CN106583690B | 公开(公告)日: | 2018-11-27 |
发明(设计)人: | 杨晓红;康丹丹;邹军涛;肖鹏;梁淑华 | 申请(专利权)人: | 西安理工大学 |
主分类号: | B22F3/12 | 分类号: | B22F3/12 |
代理公司: | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人: | 胡燕恒 |
地址: | 710048*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 添加 ti 元素 制备 cuw 合金 方法 | ||
本发明公开了一种添加Ti元素制备CuW合金的方法,具体为:将W粉与Ti粉和诱导铜粉放入混料机中混合均匀,压制成型,得到钨压坯;然后将钨压坯放入氢气气氛烧结炉中烧结获得钨骨架;最后将纯铜块叠放于钨骨架上方,放入氢气气氛烧结炉中,溶渗烧结,获得添加Ti的CuW合金。本发明通过添加Ti元素使得Cu/W实现了良好的冶金结合,且促进了钨骨架烧结颈的形成,起到活化烧结的作用。同时Ti元素的添加可以很好强化弱击穿相‑Cu相,使得制得的Cu(Ti)W合金,具有良好的强度和导电性,提高了电触头使用寿命的目的。
技术领域
本发明属于电工材料制备技术领域,涉及一种添加Ti元素制备CuW合金的方法。
背景技术
由于钨具有高的熔点和强度以及低的热膨胀系数,铜具有良好的导热导电性,所以,铜钨合金表现出优良的耐高温、耐烧蚀、高强度、高硬度等性能。
常规的CuW触头材料在开断过程中,由于铜的逸出功低且熔点较低,在高温电弧作用下,铜相将产生熔化和喷溅,造成触头材料表面凹凸不平,严重影响输电线路运行的稳定性和可靠性。因此,如何提高触头材料的耐电弧侵蚀性能成为触头材料研究的关键问题。
在W骨架制备时添加适量的活化元素能明显地改善Cu、W的润湿性,并且具有明显的活化烧结作用,能很好地促进钨粉的致密化和提高W骨架的强度。研究表明,在铜中添加Cr、Ni及Fe等元素,不仅可以提高Cu、 W之间的界面润湿性,还可使Cu/W界面结合由机械结合演变成为冶金结合,进而提高两相界面强度。由二元合金相图可知Ti与W可以形成连续固溶体,且Ti在Cu中也有一定的固溶量。Ti元素的添加可以改善Cu、W的润湿性,有利于提高Cu/W相界面结合强度。另外,经时效时效处理的Cu(Ti) W合金具有良好的强度和导电性,Ti元素的添加可以很好强化弱击穿相-Cu 相,达到提高电触头使用寿命的目的。
发明内容
本发明的目的是提供一种添加Ti元素制备CuW合金的方法,用以提高 Cu/W相界面结合强度。
本发明所采用的技术方案是,一种添加Ti元素制备CuW合金的方法,具体按以下步骤实施:
步骤1,混粉:
将W粉与Ti粉和诱导铜粉放入混料机中,加入无水乙醇湿混2~8小时;
步骤2,压制:
将经步骤1混合好的粉体倒入模具,压制成型,得到钨压坯;
步骤3,烧结:
将步骤2压制好的钨压坯放入氢气气氛烧结炉中烧结,随炉冷却至室温,获得钨骨架;
步骤4,溶渗:
将纯铜块叠放于步骤3得到的钨骨架上方,放入氢气气氛烧结炉中,溶渗烧结,随炉冷却至室温,获得添加Ti的CuW合金。
本发明特点还在于,
步骤1中W粉与Ti粉和诱导铜粉的用量按照质量百分比为: 1:0.5~2.0%:5~15%。
步骤1中无水乙醇的加入量为所有粉末总质量的2~6%。
步骤1中W粉的平均粒度为5~10μm,Ti粉的平均粒度5~40μm。
步骤2中压制压力为200~400MPa,保压时间为20~40s。
步骤3中烧结参数为:升温至800~1000℃保温0.5~2h。
步骤4中溶渗烧结参数为:先升温至800~1000℃保温0.5~2h,再升温至1200~1400℃,保温1~3h。
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