[发明专利]测序反应小室、测序反应夹具以及测序反应设备

说明书

本发明涉及基因测序领域，提供了一种测序反应小室、测序反应夹具以及测序反应设备；所述的测序反应小室包括第一基片和第二基片，第一基片的下表面与第二基片的上表面贴合，在所述第一基片和第二基片之间形成至少一条中空的反应通道；第一基片或第二基片上设置有试剂出口，第一基片或第二基片上还设置有试剂出口；所述第一基片的上表面上贴合有用于对反应通道中的试剂进行加热的加热玻片；第二基片上对应在所述反应通道的位置设置有一凸起，凸起上设置有一测温孔，测温孔内容纳有测温探头；本发明的有益效果是：避免基因测序反应小室表面的空气对流对测温造成的影响，提高基因测序反应温度测量的准确性，使测得的温度更加接近于基因测序反应的反应试剂的温度。

技术领域

本发明涉及基因测序领域，更具体地说，本发明涉及一种测序反应小室、测序反应夹具以及测序反应设备。

背景技术

现有技术中，一种测序反应装置，包括测序反应小室、温度控制装置以及温度检测装置，所述温度控制装置一般包括有制冷片，制冷片与测序反应小室接触，通过制冷片对测序反应小室进行温度的控制；温度检测装置一般包括有温度传感器，温度传感器也与测序反应小室接触，通过检测测序反应小室的温度，得到测序反应的温度。

这种对于测序反应进行温度检测的装置存在以下两个方面的不足，一方面，由于温度传感器所测得的温度并不是进行测序反应的试剂的温度，因此对于测序反应的温度的检测存在着误差；检测测序反应的试剂的温度一直是基因测序领域的难题，一般情况下，由于测序反应小室在进行一次测序反应后则需要更换，而进行温度测量的装置无需进行更换，考虑到成本的问题，在对测序反应小室进行更换时无法对温度测量装置进行更换，因此一般不将测温装置装入测序反应小室中；更为重要的一点是，如果将进行测温的测温装置装入测序反应小室的内部，测温点与测序反应小室之间很难实现完全的密封，容易出现漏液的问题，从而使测序反应不能够正常的进行。另一方面，温度检测装置的温度传感器与测序反应小室接触，在进行测温时，由于测序反应小室表面的空气对流，容易对温度的测量造成影响，导致温度的测量易出现偏差，温度测量的精度较低。

因此需要一种新的测序反应小室，能够避免测序反应小室表面的空气对流对温度测量的影响，提高测序反应温度测量的准确性，使测得的温度更加接近于测序反应的试剂的温度。

发明内容

本发明的目的在于提供一种基因测序反应小室和基因测序反应设备，旨在解决现有技术中基因测序反应小室表面的空气对流容易对温度的测量造成影响，导致温度的测量易出现偏差，温度测量的精度较低的问题。

为了实现发明目的，一种基因测序反应小室，其改进之处在于：包括第一基片和第二基片，所述第一基片的下表面与第二基片的上表面贴合，在所述第一基片和第二基片之间形成至少一条中空的反应通道；

所述第一基片或第二基片上设置有与反应通道连通的试剂入口，所述第一基片或第二基片上还设置有与反应通道连通的试剂出口；

所述第一基片的上表面上设置有用于对反应通道中的反应试剂进行加热的加热层；所述第二基片上对应在所述反应通道的位置设置有一凸起，所述凸起上设置有一测温孔，且所述测温孔用于容纳对反应通道中的反应试剂进行温度检测的测温探头。

在上述的结构中，所述反应通道的两端分别设有用于容纳反应试剂的试剂缓冲区，所述试剂入口与其中的一试剂缓冲区相连通，所述试剂出口与另一试剂缓冲区相连通，所述试剂缓冲区为设置在第一基片的下表面并位于第一凹槽两端的第二凹槽或所述试剂缓冲区为设置在第二基片的上表面并位于第一凹槽两端的第二凹槽。

在上述的结构中，所述第一基片包括第一玻璃基片，所述第二基片包括PDMS夹层和第二玻璃基片，且所述PDMS夹层位于第一玻璃基片和第二玻璃基片之间；所述PDMS夹层上设置有条形的通孔，所述反应通道由第一玻璃基片、条形的通孔以及第二玻璃基片围合而成；所述PDMS夹层略长于所述的第二玻璃基片，第一玻璃基片、PDMS夹层以及第二玻璃基片贴合后，所述PDMS夹层具有未被所述第二玻璃基片遮挡的下表面，所述凸起即设置于PDMS夹层的未被遮挡的下表面上。