[发明专利]一种透明导电和低发射率微网及其制备方法

权利要求书

1.一种透明导电和低发射率微网，其特征在于，所述微网是由金属纳米线相互交织成的金属纳米线网络，所述微网的平均网孔尺寸为200～1110 nm。

2.根据权利要求1所述的透明导电和低发射率微网，其特征在于，所述微网的平均网孔尺寸为200～1000 nm，更优选为200～400 nm。

3.根据权利要求1或2所述的透明导电和低发射率微网，其特征在于，所述金属纳米线为银纳米线、铜纳米线、金纳米线、和铝纳米线中的至少一种。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的透明导电和低发射率微网，其特征在于，所述金属纳米线的直径为10～500 nm、长度与直径之比范围为1～5000。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的透明导电和低发射率微网，其特征在于，所述微网的厚度为50 nm～50 μm，优选为10 μm～45μm。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的透明导电和低发射率微网，其特征在于，所述微网还包括支撑所述金属纳米线网络的衬底，优选为透明衬底。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的透明导电和低发射率微网，其特征在于，所述微网在550 nm处透过率为60%～85%，发射率为0.15～0.47。

8.一种权利要求1至7中任一项所述的透明导电和低发射率微网的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

配制金属纳米线涂覆液；

将所得的金属纳米线涂覆液涂覆于衬底上，经100～150 ℃热处理后，得到所述微网，所述涂覆方式优选为旋涂、辊涂、喷涂或磁控溅射。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述金属纳米线涂覆液中，溶剂为异丙醇、乙醇、和/或水，金属纳米线的浓度为0.01～0.1g/mL。

10.根据权利要求8或9所述的制备方法，其特征在于，通过控制涂覆的厚度来控制所述微网的网孔尺寸。