[实用新型]一种隧道窑烧成带

说明书

技术领域

本实用新型涉及瓷器领域，具体涉及一种隧道窑烧成带。

背景技术

现有100米隧道窑低温带有4对烧嘴，对应5个车位，8.45米长，氧化区间较短，在一定单位时间内，产品氧化不彻底；还原带高温成瓷部分有3对烧嘴，对应4个车位，6.76米长，高温成瓷区间较短，上下部温差大，窑顶升温困难；还原带高温成瓷部分为发弦拱顶，无效空间大，气氛不稳定。

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对现有技术的缺陷和不足，提供一种结构简单，设计合理、使用方便的一种隧道窑烧成带，它采用隧道窑氧化带氧化区间延长后，在同样进车速度下，实际延长氧化时间80％，解决瓷件氧化不彻底的缺陷；高温带增加烧嘴改为上下布局后，首先解决高温带上下温差大，窑顶升温困难现象，同时增加1个车位区间，在同样进车速度下相应延长高温时间25％，确保成瓷效果；它具有使用方便，操作简单，实用性好，成本得到大幅度降低。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：

本实用新型所述的一种隧道窑烧成带，包括低温带和还原带，其特征在于，低温带和还原带底部设有传送线，所述低温带内设有低温烧嘴，顶端部分为拱形，低温烧嘴数量为6对，所述还原带底部加有底层高温烧嘴，中间 采用中段高温烧嘴，顶端采用吊砖平顶，所述底层高温烧嘴数量为4对，中段高温烧嘴数量为2对，所述低温带长15.21米，还原带长8.45米。

进一步地，所述低温烧嘴为低温等速PLC控制烧嘴。

进一步地，所述高温烧嘴和中段高温烧嘴为多级雾化高温PLC。

进一步地，所述吊砖平顶采用扁平型结构。

采用上述结构后，本实用新型有益效果为：本实用新型它采用隧道窑氧化带氧化区间延长后，在同样进车速度下，实际延长氧化时间80％，解决瓷件氧化不彻底的缺陷；高温带增加烧嘴改为上下布局后，首先解决高温带上下温差大，窑顶升温困难现象，同时增加1个车位区间，在同样进车速度下相应延长高温时间25％，确保成瓷效果；还原带高温部分由发弦拱顶改为吊砖平顶后，减少无用空间，确保该段压力稳定，从而形成稳定的弱还原气氛，确保成瓷质量；它具有使用方便，操作简单，实用性好，成本得到大幅度降低。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

附图标记说明：

1、低温带；2、还原带；3、传送线；4、低温烧嘴；5、拱形；6、底层高温烧嘴；7、中段高温烧嘴；8、吊砖平顶。 

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。

如图1所示，本实用新型所述的一种隧道窑烧成带，包括低温带1和还 原带2，其特征在于，低温带1和还原带2底部设有传送线3，所述低温带1内设有低温烧嘴4，顶端部分为拱形5，低温烧嘴4数量为6对，所述还原带2底部加有底层高温烧嘴6，中间采用中段高温烧嘴7，顶端采用吊砖平顶8，所述底层高温烧嘴6数量为4对，中段高温烧嘴7数量为2对，所述低温带1长15.21米，还原带2长8.45米。

进一步地，所述低温烧嘴4为低温等速PLC控制烧嘴。

进一步地，所述高温烧嘴6和中段高温烧嘴7为多级雾化高温PLC。

进一步地，所述吊砖平顶8采用扁平型结构。

本实用新型它采用隧道窑氧化带氧化区间延长后，在同样进车速度下，实际延长氧化时间80％，解决瓷件氧化不彻底的缺陷；高温带增加烧嘴改为上下布局后，首先解决高温带上下温差大，窑顶升温困难现象，同时增加1个车位区间，在同样进车速度下相应延长高温时间25％，确保成瓷效果；还原带高温部分由发弦拱顶改为吊砖平顶后，减少无用空间，确保该段压力稳定，从而形成稳定的弱还原气氛，确保成瓷质量；它具有使用方便，操作简单，实用性好，成本得到大幅度降低。

以上所述仅是本实用新型的较佳实施方式，故凡依本实用新型专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均包括于本实用新型专利申请范围内。