[发明专利]一种基于非晶态SiC薄膜的低功耗忆阻器及其制备方法

说明书

技术领域

本发明属于微电子技术领域，尤其涉及一种基于非晶态SiC薄膜的低功耗忆阻器及其制备方法。

背景技术

忆阻器是除电阻、电容、电感之外的第四种电路元件，利用其独特的电阻记忆功能，忆阻器在很多领域有着重要应用。忆阻器的基本原理在于，功能层材料的电阻在外加电压的激励下可在高阻态(“OFF”状态)和低阻态(“ON”状态)之间实现可逆转变，从而实现数据存储功能。半导体、绝缘体、固态电解质等各种各样的材料体系中都发现了电阻转变效应，多种多样的材料构建了不同的忆阻器模型，并提出了多种电阻转变机制。目前科学界将忆阻器的阻变机理归纳为离子效应、电子效应和热效应三类，其中离子效应又可分为阴离子效应和阳离子效应。

阳离子效应是基于固体电解质或类固体电解质中活性金属离子的物理迁移和电化学反应。当正电压施加于活性金属电极上时，电解质中源于活性电极的金属离子将在惰性电极处被还原成金属原子。随着被还原离子的不断增多，在两个电极之间就形成了一个由惰性电极连向活性电极的金属导电细丝，这个细丝显著地降低了器件电阻，这就完成了一个“写”的过程。擦除这个器件与写入类似，在活性电极上施加负电压，金属离子将从细丝离开回到电解质中去，并最终回到活性电极上，这样就使导电细丝断开，重新回到了高阻态。

一个基于阳离子效应的忆阻器件的典型特点是需要一个具有电化学活性的金属电极，如Cu、Ag等(或含有活性金属的合金电极)，而对电极则一般为电化学惰性，常用的材料有Pt、Au、W等。功能层材料在早期主要采用传统电解质，包括硫化物、碘化物、硒化物、碲化物以及H₂O等。现在，非传统电解质类型的材料也开始用于基于阳离子效应的忆阻器件，包括二元氧化物、非晶态C等。在硫族化物等传统电解质中，活性金属离子具有很高的迁移率，但是在非传统固态电解质中金属活性离子的迁移率非常低，导致形成金属导电细丝需要较大的操作电压、操作电流，不利于忆阻器功耗的降低。另外，现有技术中忆阻器中的薄膜一般采用常规的镀膜方法如磁控溅射、电子束蒸发制备，未对制备工艺进行调节，导致制备的忆阻器的功耗较高。

发明内容

本发明要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种操作电压低、操作电流低的基于非晶态SiC薄膜的低功耗忆阻器及其制备方法。

为解决上述技术问题，本发明提出的技术方案为：

一种基于非晶态SiC薄膜的低功耗忆阻器，为由衬底、底电极、顶电极以及位于底电极和顶电极之间的功能层组成的叠加结构，所述功能层为非晶态SiC薄膜，所述非晶态SiC薄膜为多孔隙结构，非晶态SiC薄膜的厚度为10nm～30nm。非晶态SiC由于具有良好的热稳定性和循环性能，以及Cu、Ag等在其中具有的低扩散速率等特性，采用低聚集密度、多孔隙结构的薄膜，有利于忆阻器功耗的降低；采用非晶态SiC薄膜，有利于保证忆阻器循环稳定性。

上述的低功耗忆阻器，优选的，所述顶电极为点状金属Ag薄膜，Ag薄膜的厚度为50nm～200nm。选取点状金属Ag薄膜，避免与底电极、功能层相互间的串扰，满足忆阻器高密度存储的要求。

上述的低功耗忆阻器，优选的，所述底电极为金属Pt薄膜，Pt薄膜的厚度为100nm～300nm。

作为一个总的发明构思，本发明还提供一种上述的低功耗忆阻器的制备方法，包括以下步骤：

(1)在衬底上制备底电极；

(2)在所述底电极上通过射频磁控溅射方法制备非晶态SiC薄膜；

(3)在所述非晶态SiC薄膜层上通过金属掩模板用直流磁控溅射方法制备顶电极，即得到所述低功耗忆阻器。

上述的制备方法，优选的，所述步骤(2)中，射频磁控溅射的工艺条件为：以SiC陶瓷靶为溅射靶材，腔室压力小于5×10^-4Pa(尽可能减少溅射腔室中其他分子对阻变层薄膜制备带来的干扰)，溅射温度为20℃～50℃，溅射压力为1.5Pa～5.0Pa，溅射功率为100W～200W，氩气流量为30sccm～50sccm。射频磁控溅射压力选自1.5Pa～5.0Pa，溅射时沉积室中主要存在Ar分子和具有一定能量的溅射原子，在溅射原子从靶材被碰撞出至入射到基片成膜的过程中，会与Ar分子发生相互碰撞，从而改变自身能量和方向。当溅射气压大时，溅射原子与Ar分子发生碰撞的次数增多，导致溅射原子的平均自由程减小，入射到基片上原子的动能显著降低，所以薄膜变疏松，聚集密度低，保证了非晶态SiC薄膜呈低聚集密度状态，使忆阻器具备低功耗优势。