[实用新型]扩散炉排风装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体加工领域，具体涉及一种扩散炉排风装置。

背景技术

扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。扩散工艺的主要用途是在高温条件下对半导体晶圆进行掺杂，即将元素磷、硼扩散入硅片，从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和分布，以便建立起不同的电特性区域。扩散炉运行时由于炉内温度高导致外部温度相对较高，尤其是炉口处温度远高于车间温度，炉口外侧不远处为设备所需的几种气体混合反应处，温度持续太高会影响气体的稳定性，使反应发生偏差，不能正常供气，导致设备故障不能正常运行。

发明内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种扩散炉排风装置，有效降低炉口周围环境温度，抽出炉体内反应产生的有害气体，保证炉体外气体反应不受高温影响，确保设备正常供气和运行。

本实用新型通过以下技术方案实现：

扩散炉排风装置，包括扩散炉内的石英炉管，所述石英炉管出口处一侧的炉体上竖直固定有一根排风管，所述排风管上至少开设有一个进风口，所述排风管的出风口与车间排风系统连通。

本实用新型进一步的改进方案是，所述排风管为方形管，所述进风口分别开设在靠近所述石英炉管出口处的相邻两个侧壁上。

本实用新型更进一步的改进方案是，所述进风口上设有可调节开口大小的盖板。

本实用新型和现有技术相比具有以下优点：

   本实用新型结构简单，抽风机打开后排风管能够有效收集炉口的热气，降低炉口周围的温度，还能够将热气中的有害气体抽出避免对工作人员健康造成危害，其保证炉体外混合气体反应不受高温影响，确保设备正常供气和运行。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图。

图2为图1中A向示意图。

具体实施方式

如图1所示的扩散炉排风装置，包括扩散炉内的石英炉管1，石英炉管1出口处一侧的炉体上竖直固定有一根排风管2，排风管2的侧壁上至少开设有一个进风口3，排风管2的出风口与车间排风系统连通，在抽风机的带动下抽出炉口周围的气体。

本实施例中，排风管2为方形管，进风口3分别开设在靠近石英炉管1出口处的相邻两个侧壁上，其中，两个侧壁上都开设有两个进风口3，能够有效收集气体。进风口3上设有可调节开口大小的盖板4，可根据气体的排量灵活的调节开口。