[发明专利]通过带为11500-12500nm的自然环境普查的红外成像滤光片有效
申请号: | 201310631230.3 | 申请日: | 2013-11-29 |
公开(公告)号: | CN103713342A | 公开(公告)日: | 2014-04-09 |
发明(设计)人: | 王继平;吕晶;余初旺 | 申请(专利权)人: | 杭州麦乐克电子科技有限公司 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;G02B1/00 |
代理公司: | 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 | 代理人: | 周豪靖 |
地址: | 311188 浙江省杭州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 通过 11500 12500 nm 自然环境 普查 红外 成像 滤光 | ||
技术领域
本发明涉及红外滤光片领域,尤其是一种通过带为11500-12500nm的自然环境普查的红外成像滤光片。
背景技术
红外热成像仪(热成像仪或红外热成像仪)是通过非接触探测红外能量(热量),并将其转换为电信号,进而在显示器上生成热图像和温度值,并可以对温度值进行计算的一种检测设备。红外热成像仪(热成像仪或红外热成像仪)能够将探测到的热量精确量化,或测量,使您不仅能够观察热图像,还能够对发热的故障区域进行准确识别和严格分析。
红外热成像仪的探测器是实现红外能量(热能)转换电信号的关键,由于各种生物所发出来的红外能量(热量)是不同的,所以在日常使用中为了观察某种特定生物的热图像,人们往往会在探测器中添加红外滤光片,通过红外滤光片可以使探测器只接受特定波段的红外能量(热能),保证红外热成像仪的成像结果。
但是,目前用于红外热成像的11500到12500纳米带通红外滤光片,其信噪比低,精度差,不能满足市场发展的需要。
发明内容
本发明的目的是为了解决上述技术的不足而提供一种峰值透过率高,能极大的提高信噪比的通过带为11500-12500nm的自然环境普查的红外成像滤光片。
为了达到上述目的,本发明所设计的通过带为11500-12500nm的自然环境普查的红外成像滤光片,包括以Ge为原材料的基板,以Ge、ZnS为第一镀膜层和以Ge、ZnS为第二镀膜层,且所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间,所述第一镀膜层由内向外依次排列包含有:190nm厚度的Ge层、1326nm厚度的ZnS层、449nm厚度的Ge层、694nm厚度的ZnS层、482nm厚度的Ge层、1152nm厚度的ZnS层、570nm厚度的Ge层、1072nm厚度的ZnS层、521nm厚度的Ge层、1270nm厚度的ZnS层、494nm厚度的Ge层、834nm厚度的ZnS层、426nm厚度的Ge层、1113nm厚度的ZnS层、716nm厚度的Ge层、 1205nm厚度的ZnS层、527nm厚度的Ge层、1095nm厚度的ZnS层、443nm厚度的Ge层、925nm厚度的ZnS层、450nm厚度的Ge层、1382nm厚度的ZnS层、498nm厚度的Ge层、1000nm厚度的ZnS层、662nm厚度的Ge层、967nm厚度的ZnS层、530nm厚度的Ge层、710nm厚度的ZnS层、325nm厚度的Ge层和400nm厚度的ZnS层;所述第二镀膜层由内向外依次排列包含有:180nm厚度的Ge层、484nm厚度的ZnS层、389nm厚度的Ge层、872nm厚度的ZnS层、476nm厚度的Ge层、884nm厚度的ZnS层、436nm厚度的Ge层、841nm厚度的ZnS层、466nm厚度的Ge层、998nm厚度的ZnS层、459nm厚度的Ge层、866nm厚度的ZnS层、388nm厚度的Ge层、814nm厚度的ZnS层、630nm厚度的Ge层和1486nm厚度的ZnS层。
上述各材料对应的厚度,其允许在公差范围内变化,其变化的范围属于本专利保护的范围,为等同关系。通常厚度的公差在10nm左右。
本发明所得到的通过带为11500-12500nm的自然环境普查的红外成像滤光片,其Ge材质的基板配合表面ZnS、Ge材质的镀膜层,大大提高了信噪比,配合红外热成像仪使用,提升红外热成像仪的成像结果。该滤光片7000~11200nm、T≤1.0%;11500~12500nm、Tavg≥85%;波纹深度≤10%Tp。
附图说明
图1是实施例整体结构示意图;
图2是实施例提供的红外光谱透过率实测曲线图。
具体实施方式
下面通过实施例结合附图对本发明作进一步的描述。
实施例1:
如图1、图2所示,本实施例描述的通过带为11500-12500nm的自然环境普查的红外成像滤光片,包括以Ge为原材料的基板2,以Ge、ZnS为第一镀膜层1和以Ge、ZnS为第二镀膜层3,且所述基板2位于第一镀膜层1和第二镀膜层3之间,所述第一镀膜层1由内向外依次排列包含有:190nm厚度的Ge层、1326nm厚度的ZnS层、449nm厚度的Ge层、694nm厚度的ZnS层、482nm厚度的Ge层、1152nm厚度的ZnS层、570nm厚度的Ge层、1072nm厚度的ZnS层、521nm厚度的Ge层、1270nm厚度的ZnS层、494nm厚度的Ge层、834nm厚度的ZnS层、426nm厚度的Ge层、1113nm厚度的ZnS层、716nm 厚度的Ge层、1205nm厚度的ZnS层、527nm厚度的Ge层、1095nm厚度的ZnS层、443nm厚度的Ge层、925nm厚度的ZnS层、450nm厚度的Ge层、1382nm厚度的ZnS层、498nm厚度的Ge层、1000nm厚度的ZnS层、662nm厚度的Ge层、967nm厚度的ZnS层、530nm厚度的Ge层、710nm厚度的ZnS层、325nm厚度的Ge层和400nm厚度的ZnS层;所述第二镀膜层3由内向外依次排列包含有:180nm厚度的Ge层、484nm厚度的ZnS层、389nm厚度的Ge层、872nm厚度的ZnS层、476nm厚度的Ge层、884nm厚度的ZnS层、436nm厚度的Ge层、841nm厚度的ZnS层、466nm厚度的Ge层、998nm厚度的ZnS层、459nm厚度的Ge层、866nm厚度的ZnS层、388nm厚度的Ge层、814nm厚度的ZnS层、630nm厚度的Ge层和1486nm厚度的ZnS层。
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