[发明专利]一种掩模板

权利要求书

1.一种掩模板，该掩模板包括：透光区域和不透光区域，所述透光区域内设置有第一过孔，其特征在于，所述第一过孔的周围设置有第二光学增强辅助过孔；所述第二光学增强辅助过孔的尺寸小于曝光机的精度。

2.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述第二光学增强辅助过孔设置至少两个时，所述第二光学增强辅助过孔对称设置在第一过孔的周围。

3.根据权利要求1或2所述的掩模板，其特征在于，所述第二光学增强辅助过孔的几何重心在第一过孔中心所在的纬度线或者经度线上。

4.根据权利要求1或2所述的掩模板，其特征在于，所述第二光学增强辅助过孔全包围或半包围在第一过孔的边缘。

5.根据权利要求4所述的掩模板，其特征在于，所述第二光学增强辅助过孔与第一过孔同心，或者，所述第二光学增强辅助过孔的几何重心与第一过孔的中心在一条直线上。

6.根据权利要求所述1或2的掩模板，其特征在于，所述第二光学增强辅助过孔的边界与第一过孔的边界之间设置有间隔或者相接。

7.根据权利要求1或2所述的掩模板，其特征在于，所述第二光学增强辅助过孔的部分范围设置在第一过孔内，并且所述第二光学增强辅助过孔至少有一个边长或内径在纬度线或者经度线上的长度小于曝光机的精度。