[发明专利]磁共振断层成像系统的高频发射装置的控制方法

权利要求书

1.一种用于控制磁共振断层成像系统（1）的高频发射装置（10）的方法，所述高频发射装置（10）具有带有多个发射通道（K₁,K₂,...,K_n）的发射天线系统（15），

-其中，在所述发射天线系统（15）的不同发射通道（K₁,K₂,...,K_n）上分别在不同时刻输出参考发射信号（RS），并且分别在其它发射通道（K₁,K₂,...,K_n）中的至少一个上，借助与该发射通道（K₁,K₂,...,K_n）关联的测量装置（30₁,30₂,...,30_n）测量由所述参考发射信号（RS）引发的参考测量信号（RM₁,RM₂,...,RM_n），

-并且基于所述参考测量信号（RM₁,RM₂,...,RM_n）确定相位偏差指示值（PAI），所述相位偏差指示值指示在所涉及的发射通道（K₁,K₂,...,K_n）的测量装置（30₁,30₂,...,30_n）之间的相对相位偏差。

2.根据权利要求1所述的方法，其中将所述相位偏差指示值（PAI）与相位容限值（PTW）相比较，并且优选在考虑该比较的情况下进行所述高频发射装置（10）的控制。

3.根据权利要求2所述的方法，其中在超过规定的相位容限值（PTW）时停止磁共振测量的实施，或者，其中在超过规定的相位容限值（PTW）时，基于所测量的相位偏差来校正用于磁共振测量的控制参数。

4.根据权利要求2或3所述的方法，其中根据所述参考测量信号（RM₁,RM₂,...,RM_n）和/或所述参考发射信号（RS）的高频电压幅度来规定所述相位容限值（PTW）。

5.根据权利要求1至4之一所述的方法，其中将所述参考发射信号（RS）的高频幅度选择为使得其超过检验边界值。

6.根据权利要求1至5之一所述的方法，其中将所述参考发射信号（RS）定义为使得其对应于接下来将要执行的磁共振测量的发射信号。

7.根据权利要求1至6之一所述的方法，其中基于散射参数矩阵（S）确定所述相位偏差指示值（PAI）。

8.根据权利要求7所述的方法，其中将所述散射参数矩阵（S）的矩阵元素与所述散射参数矩阵（S）的关于所述散射参数矩阵（S）的主对角线对称设置的矩阵元素相比较，并且优选基于该比较确定相位偏差指示值（PAI）。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述散射参数矩阵（S）的矩阵元素的比较包括如下比较中的至少一个：

-比较所述矩阵元素的复数值，

-比较所述矩阵元素的值的绝对值，

-比较所述矩阵元素的值的相位角。

10.根据权利要求1至9之一所述的方法，其中以反复的间隔重复所述控制方法。