[发明专利]可自修复的聚甲基丙烯酸甲脂树脂薄膜的制备及自修复方法无效
申请号: | 201310079344.1 | 申请日: | 2013-03-13 |
公开(公告)号: | CN103159969A | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
发明(设计)人: | 王荣国;郝立峰;曹振兴;王琪;刘文博;矫维成;杨帆;徐忠海;张剑光;赫晓东 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18;C08L33/12;C08K3/08;C08J7/00;B05D1/40 |
代理公司: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人: | 韩末洙 |
地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 修复 甲基丙烯酸 树脂 薄膜 制备 方法 | ||
1.可自修复的聚甲基丙烯酸甲脂树脂薄膜的制备方法,其特征在于该方法具体是按照以下步骤制备的:
一、将聚甲基丙烯酸甲脂树脂溶于三氯甲烷中,得到聚甲基丙烯酸甲脂树脂质量浓度为2%~6%的溶液;
二、将粒径为48nm~52nm的金纳米粒子加入到步骤一得到的溶液中,混合均匀,得到金纳米粒子质量浓度为3.0x10-3wt%~2.1x10-2wt%的混合溶液;
三、采用旋转涂敷的方法将步骤二得到的混合溶液均匀覆盖在硅基底上,旋转涂敷时控制转速为480rpm~520rpm,保持3s~10s,然后控制转速为1800rpm~2200rpm,保持30s~60s,再控制转速为3800rpm~4200rpm,保持45s~80s,再放在热板上,在温度为160℃~220℃条件下保持85s~95s,制得可自修复的聚甲基丙烯酸甲脂树脂薄膜。
2.根据权利要求1所述的可自修复的聚甲基丙烯酸甲脂树脂薄膜的制备方法,其特征在于步骤一中到聚甲基丙烯酸甲脂树脂质量浓度为3%~4%。
3.根据权利要求2所述的可自修复的聚甲基丙烯酸甲脂树脂薄膜的制备方法,其特征在于步骤二中金纳米粒子质量浓度为9.0x10-3wt%~2.0x10-2wt%。
4.根据权利要求3所述的可自修复的聚甲基丙烯酸甲脂树脂薄膜的制备方法,其特征在于步骤三中在温度为180℃~200℃条件下保持88s~92s。
5.如权利要求1制备的可自修复的聚甲基丙烯酸甲脂树脂薄膜的自修复方法,其特征在于该自修复方法按以下步骤进行:将受损后的可自修复的聚甲基丙烯酸甲脂树脂薄膜采用波长为520nm~550nm、光强为5W/cm2~50W/cm2的光源照射1min~5min,完成受损聚甲基丙烯酸甲脂树脂薄膜的自修复。
6.根据权利要求5所述的可自修复的聚甲基丙烯酸甲脂树脂薄膜的自修复方法,其特征在于照射光源波长为530nm~540nm。
7.根据权利要求6所述的可自修复的聚甲基丙烯酸甲脂树脂薄膜的自修复方法,其特征在于照射光源波长为532nm。
8.根据权利要求7所述的可自修复的聚甲基丙烯酸甲脂树脂薄膜的自修复方法,其特征在于照射光源光强为10W/cm2~40W/cm2。
9.根据权利要求8所述的可自修复的聚甲基丙烯酸甲脂树脂薄膜的自修复方法,其特征在于照射光源光强为15W/cm2。
10.根据权利要求9所述的可自修复的聚甲基丙烯酸甲脂树脂薄膜的自修复方法,其特征在于照射光源照射2min~3min。
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