[实用新型]真空放气阀

说明书

技术领域

本实用新型涉及真空器械技术领域，尤其是涉及适用于真空镀膜设备的真空放气阀。

背景技术

传统的电镀工艺主要是以水镀为主，而水镀会产生废液、废气和废物，如果处理不好，排放出去会造成环境污染，不环保，且治理难度大、投资也大，因而该工艺逐步受到限制。

随后出现有物理气相沉积（PVD）技术，主要是在真空环境下进行表面处理，物理气相沉积本身分为三种：真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜，近十年来发展相当快，已经成为当今最先进的表面处理方式之一。物理气相沉积技术对真空环境要求较高，因而需要更为严谨、稳定的真空器械，如真空气阀，需要具有良好的密封性和操控性，在此背景下，本申请人迎合市场发展的需求，秉持着研究创新、精益求精之精神，利用其专业眼光和专业知识，研究出一种适用于真空镀膜设备的真空气阀。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种结构简单、科学合理，易制作，且操控稳定的真空放气阀。

为达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

真空放气阀，其具有一气缸、一气缸座，气缸座组接在气缸的前端，且气缸座内部中空，于气缸座的内空部设有一阀盖，阀盖由气缸驱动，阀盖活动密封与气缸座衔接的阀座的进气口。

所述气缸、气缸座及阀座之间为轴向衔接，阀座的进气口与阀盖轴向对接。

所述阀盖之面向阀座之进气口的一端设有密封垫，而阀盖之与密封垫相背对的一端通过螺纹来连接气缸的伸缩轴。

本实用新型采用气动方式来打开和闭合阀盖，动作稳定、易操作，且密封良好，结构简单，科学合理，投资成本低，维护检修十分方便，大大提高了气阀的运行率和可操作性，体积小巧，安装、使用方便。

附图说明：

附图1为本实用新型的较佳实施例结构示意图。

具体实施方式：

以下结合附图对本实用新型进一步说明：

参阅图1所示，本实用新型所述的一种真空放气阀，该放气阀具有一气缸1、一气缸座2，气缸座2组接在气缸1的前端，气缸1的前端部分套入气缸座2固接，气缸座2内部中空，并于气缸座2的内空部设有一阀盖3，阀盖3由气缸1驱动，阀盖3活动密封与气缸座2衔接的阀座4的进气口41，阀座4的进气口41连通气缸座2的内空部，气缸座2的周边上则设有外界与内空部连通的通孔。

本实施例中，所述气缸1、气缸座2及阀座4之间为轴向衔接，阀座4的进气口41与阀盖3轴向对接。阀盖3之面向阀座4之进气口41的一端设有密封垫31，而阀盖3之与密封垫31相背对的一端通过螺纹来连接气缸1的伸缩轴11。结构简单，科学合理，投资成本低，维护检修十分方便，大大提高了气阀的运行率和可操作性，体积小巧，安装、使用方便；利用气缸1伸缩驱动阀盖3工作，动作稳定、易操作，且密封良好，适用面广，经济性高。

工作时，气缸1的伸缩轴11内缩则带动阀盖3运动远离阀座4的进气口41，阀盖3的密封垫31离开进气口41，这时空气可从阀座4的进气口41进入真空容器，容器由此从真空状态达到大气状态。当气缸1的伸缩轴11外伸则带动阀盖3运动对接阀座4的进气口41，阀盖3的密封垫31密封进气口41，这时空气不能从阀座4的进气口41进入真空容器，达到密封状态，以便容器抽真空。

本实用新型结构简单，体形小，不易损坏，经济适用。

当然，以上图示仅为本实用新型的较佳实施例，并非以此限定本实用新型的实施范围，故，凡是依照本实用新型之原理做等效变化或修饰，均应涵盖于本实用新型的保护范围内。