[发明专利]可消除摩擦力影响的张力传感器装置有效
| 申请号： | 201210404562.3 | 申请日： | 2012-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN102928149A | 公开（公告）日： | 2013-02-13 |
| 发明（设计）人： | 单晓杭;孙建辉;周海清;周丹锋 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | G01L5/10 | 分类号： | G01L5/10 |
| 代理公司： | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人： | 王兵;王利强 |
| 地址： | 310014 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 消除 摩擦力 影响 张力 传感器 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种可消除摩擦力影响的张力传感器装置，其特征在于：包括两组张力应变片和压缩应变片组成的张力感应组件、内置信号处理器、两根测张辊、三根张力辊以及传感器安装座，所述传感器安装座上并排布置三根张力辊，在两两相邻的张力辊之间设有测张辊，三根张力辊所在直线与两根测张辊所在直线平行，所述测张辊上安装张力感应组件，所述张力感应组件与所述内置信号处理器电连接，所述内置信号处理器包括用以依照两个张力感应组件测得的压力值FNa、FNb计算得到的力Fa、Fb，再通过Fa、Fb计算得到当前张力值F：F=Fb+（Fb-Fa）/2的张力测量模块。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江工业大学，未经浙江工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210404562.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：茶提取物的制造方法
- 下一篇：一种通过醋酸乙烯制备燃料乙醇的方法
