[发明专利]亲水性膜、其制备方法和应用

权利要求书

1.一种亲水性膜，包括：

基板，所述基板具有平行的凹凸结构；和

亲水性涂层，所述亲水性涂层包括二氧化硅涂层。

2.根据权利要求1所述的亲水性膜，其中所述二氧化硅涂层由平均粒度为1至60nm的二氧化硅粒子形成。

3.根据权利要求2中任一项所述的亲水性膜，其中所述二氧化硅涂层通过涂布所述二氧化硅粒子的水性分散液形成，所述水性分散液的二氧化硅浓度为0.05重量％至15重量％。

4.根据权利要求3所述的亲水性膜，其中所述水性分散液的所述二氧化硅粒子选自第一组二氧化硅粒子，第二组二氧化硅粒子及第三组二氧化硅粒子及其组合所构成的组，其中第一组二氧化硅粒子的平均粒度不大于6nm，第二组二氧化硅粒子的平均粒度大于第一组二氧化硅粒子且不大于25nm，第三组二氧化硅粒子的平均粒度大于第二组二氧化硅粒子且不大于60nm。

5.根据权利要求4所述的亲水性膜，其中当所述水性分散液的二氧化硅浓度不大于0.5重量％时，所述二氧化硅涂层的二氧化硅粒子选自所述第一组二氧化硅粒子、所述第二组二氧化硅粒子，所述第三组二氧化硅粒子及其组合所构成的组。

6.根据权利要求4所述的亲水性膜，其中当所述水性分散液的二氧化硅浓度为0.5重量％至10重量％时，所述二氧化硅涂层的二氧化硅粒子选自所述第一组二氧化硅粒子、所述第二组二氧化硅粒子及其组合所构成的组。

7.根据权利要求4所述的亲水性膜，其中当所述水性分散液的二氧化硅浓度为10重量％至15重量％时，所述二氧化硅涂层的二氧化硅粒子选自所述第一组二氧化硅粒子。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的亲水性膜，其中所述基板的材料选自聚酯、聚醚、聚酰胺、聚烯烃、聚丙烯酸和玻璃组成的组，并且所述基板为由所述材料构成的单层结构或双层结构。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的亲水性膜，其中平行凹凸结构中的深度为平行凹凸结构中相邻的最高点或最低点的间距的一半。

10.一种用于制备亲水性膜的方法，所述方法包括：

配制二氧化硅水性分散液，其中二氧化硅的平均粒度为1至60nm，二氧化硅浓度为0.05重量％至15重量％；

将所述二氧化硅水性分散液涂布到基板上，所述基板具有平行的凹凸结构；和

将涂布有二氧化硅水性分散液的基板进行干燥。

11.根据权利要求10所述的方法，还包括用酸将二氧化硅水性分散液的pH调至2-5。

12.根据权利要求10或11所述的方法，其中所述二氧化硅水性分散液中还包含树脂。

13.根据权利要求12所述的方法，其中所述树脂的浓度为0.1-20重量％。

14.根据权利要求10或11所述的方法，其中所述二氧化硅涂布水溶液中还包含表面活性剂。

15.根据权利要求10或11所述的方法，其中所述基板的材料选自聚酯、聚醚、聚酰胺、聚烯烃、聚丙烯酸和玻璃组成的组，并且所述基板为由所述材料构成的单层结构或双层结构。

16.一种根据权利要求1-9中任一项所述的亲水性膜的用途，其用于一种测试流体的试片。