[发明专利]一种用于太阳能电池的链式扩散工艺

权利要求书

1. 一种用于太阳能电池的链式扩散工艺，其特征在于：包括如下步骤：

步骤A：采用丝网印刷磷浆工艺进行链式扩散或喷涂磷酸水溶液工艺进行链式扩散，在基体硅片（1）表面形成丝网印刷表层磷浆层（2）； 

步骤B：在步骤A后，进行高温链式扩散工艺处理，将丝网印刷表层磷浆层（2）转化，等形成的P原子扩散进入基体硅片表面形成N型层，同时基体硅片表面形成有杂质层，我们将N型层和杂质层总称为链式扩散后表层杂质分布层（3）；

步骤C：在步骤B后，对链式扩散后表层杂质分布层（3）的表面进行氧化处理，在链式扩散后表层杂质分布层（3）表面快速生长一层均匀分布的氧化层（4）；

步骤D：将步骤C中的氧化层（4）去除，形成去除氧化层后硅片表面杂质分布层（5）。

2. 根据权利要求1所述的一种用于太阳能电池的链式扩散工艺，其特征在于：所述丝网印刷磷浆工艺进行链式扩散的方法为：利用网版将磷浆均匀地印刷在基体硅片（1）的表面；高温链式扩散工艺处理为：将印刷有磷浆的基体硅片（1）通过有不同温区的链式扩散炉，在高温处理下磷浆中的有机聚合物在高温下分解然后通过排风系统排出，P原子扩散进入基体硅片表面形成N型层。

3. 根据权利要求1所述的一种用于太阳能电池的链式扩散工艺，其特征在于：所述氧化处理的方法为高温湿氧氧化。

4. 根据权利要求3所述的一种用于太阳能电池的链式扩散工艺，其特征在于：高温湿氧氧化的过程为：将步骤B处理后的基体硅片（1）放在密闭的高温炉中，然后通入高温水蒸气，通过水蒸气与硅片表面扩散层之间的反应来快速生长氧化层。

5. 根据权利要求1所述的一种用于太阳能电池的链式扩散工艺，其特征在于：步骤D中的氧化层（4）去除方法为：将步骤B之后的基体硅片（1）放在氢氟酸溶液中，待氢氟酸溶液与氧化层（4）反应后取出。

6. 根据权利要求1-5中任意一项所述的一种用于太阳能电池的链式扩散工艺，其特征在于：步骤B后的基体硅片（1）方阻比步骤C后的基体硅片（1）方阻低5ohm-30ohm。

7. 根据权利要求1-5中任意一项所述的一种用于太阳能电池的链式扩散工艺，其特征在于：步骤C后的基体硅片（1）方阻在60ohm-120ohm范围内。