[发明专利]电光装置及投影型显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及液晶装置等的电光装置、和具备该电光装置的投影型显示装置。

背景技术

各种的电光装置中，液晶装置，如图9所示，具有设置多个像素电极1009a及开关元件(未图示)的第1基板1010、和与第1基板1010相对配置的第2基板1020，在第1基板1010和第2基板1020之间设置作为电光物质层的液晶层1050。另外，液晶装置中，TN(Twisted Nematic：扭曲向列)模式和VA(Vertical Alignment：垂直取向)模式的液晶装置中，在第2基板1020形成共用电极1021。在这样的液晶装置中，通过在共用电极1021和像素电极1009a之间控制液晶层1050的取向，调制从第2基板1020侧入射的光，从第1基板1010作为显示光出射。

提出以下技术：关于这样的液晶装置，在构成第2基板1020的一部分的防尘玻璃的一方的面上进行蚀刻而形成朝向像素电极1009a之间(像素间区域1010f)开口的断面V字状的沟槽1260之后，通过粘合剂1023粘贴透光性的盖玻片1024，利用填充空气的中空的沟槽1260的侧面1261、1262作为反射面。根据这样的技术，从第2基板1020侧入射的光中，朝向像素电极1009a的光，如箭形符号L11所示，原样行进。另外，关于如箭形符号L12所示，关于朝向从像素电极1009a脱离的方向(朝向像素间区域1010f的方向)的光，如箭形符号L13所示，在沟槽1260的侧面1261、1262反射，朝向像素电极1009a。因此，能向像素电极1009a效率很好地引导从第2基板1020侧入射的光。

【现有技术文献】

【专利文献】

【专利文献1】特开2006-215427号公报

通过专利文献1中记载的技术为了提高光的利用效率，需要非常深地形成宽度尺寸狭窄的沟槽1260，但是在通过蚀刻形成沟槽1260的场合，25μm左右是界限。另外，如果通过蚀刻形成沟槽1260，则在沟槽1260的里面形成面状的底部1264，向这样的底部1264入射的光，由于不朝向像素电极1009a，所以无助于显示。

发明内容

鉴于以上的问题，本发明的课题，提供一种电光装置和具备该电光装置的投影型显示装置，其改良了构成反射部的沟槽的结构，能效率更好地使入射的光朝向像素电极。

为了解决上述课题，本发明涉及的电光装置，其特征在于，包括：第1基板，设置有多个像素电极及与上述多个像素电极的各个相对应的开关元件；第2基板，与该第1基板相对配置；电光物质层，设置于上述第1基板和上述第2基板之间；上述第1基板及上述第2基板中的一方的基板是透光性基板，其设置有：第1沟槽，朝向上述多个像素电极中相邻的像素电极之间开口；透光膜，在上述透光性基板的上述第1沟槽开口的基板面及上述第1沟槽侧面，以与上述基板面重叠的部分的膜厚成为相比于与上述第1沟槽的侧面重叠的部分的膜厚更厚的方式层叠，并且在与上述第1沟槽俯视重叠的区域形成比上述第1沟槽深且比该第1沟槽宽度窄的第2沟槽；密封层，以上述第2沟槽的内部的折射率成为比上述透光膜的折射率小的方式堵塞上述第2沟槽。

本发明中，第1基板及第2基板中的一方的基板是透光性基板，在这样的透光性基板，形成朝向相邻的像素电极之间开口的第1沟槽。另外，在透光性基板的第1沟槽开口的基板面及第1沟槽的侧面形成透光膜，通过这样的透光膜，在与第1沟槽俯视重叠的区域，形成比第1沟槽深且比第1沟槽宽度窄的第2沟槽。另外，第2沟槽内的折射率比透光膜的折射率小。因此，能利用第2沟槽侧面作为反射面，所以能使本应朝向像素电极之间的光朝向像素电极。在这里，第2沟槽比通过蚀刻等形成的第1沟槽还深，反射面(侧面)大。另外，第2沟槽的底部，比第1沟槽的底部窄，所以由于光入射在沟槽的底部引起的光的损失少。因此，能效率很好地使本应朝向像素电极之间的光朝向像素电极，所以能提高有助于显示的光量，能显示明亮的图像。

本发明中，优选地，上述第1沟槽的侧面及上述第2沟槽的侧面成为向上述相邻的像素电极之间倾斜的斜面。根据这样的构成，在沟槽的侧面反射本应朝向像素电极之间的光，能效率很好地使之朝向像素电极。

本发明中，优选地，上述透光膜的与上述第1沟槽的侧面重叠的部分的膜厚，从上述第1沟槽的开口部侧向该第1沟槽的底部变薄。根据这样的构成，能使第2沟槽的侧面与相对于基板面的法线方向所成的角度，比第1沟槽的侧面与相对于基板面的法线方向所成的角度还小。