[发明专利]基材膜及转印箔有效
申请号: | 201210104959.0 | 申请日: | 2006-11-08 |
公开(公告)号: | CN102642366A | 公开(公告)日: | 2012-08-22 |
发明(设计)人: | 药师堂健一;桥本幸吉;木村将弘 | 申请(专利权)人: | 东丽株式会社 |
主分类号: | B32B27/36 | 分类号: | B32B27/36;B41M5/44 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 基材 转印箔 | ||
本申请是申请日为2006年11月8日、申请号为200680041597.8(国际申请号为PCT/JP2006/322240)、发明名称为“聚酯层合膜及转印箔”的申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及一种脱模性、印刷性及成型性优异的成型用聚酯层合膜及转印箔。
背景技术
为了装饰具有难于通过直接印刷进行装饰的形状的构件,目前已知有使用成型用膜或转印箔的方法,即,通过使实施了印刷的膜与构件表面一体化来进行装饰。
作为现有的成型用膜及转印箔用膜,公开了使用双轴拉伸聚酯膜的方案(例如参见专利文献1)。另外,还公开了使用成型应力在特定范围内的聚酯膜,为了改善成型性使用与双轴拉伸PET相比成型应力较低的聚酯特别是共聚聚酯的方案(参见专利文献2)。然而,使用双轴拉伸聚酯膜的方法在向形状复杂的构件进行转印时成型性不充分。另外,使用共聚聚酯的方法虽然成型性好,但由于熔点低,故耐热性差,在脱模工序中易产生剥离划痕,另外,还存在下述问题,即因为印刷油墨所含的溶剂如乙酸乙酯、甲基乙基酮等导致膜表面的平滑性变差,易产生印刷缺陷等。因此人们期待开发出一种与上述膜相比与被转印体的脱模性、印刷性及成型性优异的膜。
鉴于上述问题,提出了一种使脱模性和耐溶剂性优异的聚烯烃膜与成型性优异的聚酯膜贴合,同时满足脱模性、印刷性及成型性的贴合膜(参见专利文献3)。但是,此贴合膜存在必需进行使聚酯膜和聚烯烃膜贴合的工序及因为再利用性差而导致制造成本高的问题。
专利文献1:特开平06-210799号公报
专利文献2:专利第3090911号公报
专利文献3:特开2004-188708号公报
发明内容
鉴于上述现有技术的背景,本发明的目的在于提供一种同时满足脱模性、印刷性及成型性、并且性价比优异的成型用聚酯层合膜。
为了解决上述课题,本发明采用以下方法。即,本发明涉及一种聚酯层合膜,至少按聚酯层、由结晶性参数ΔTcg在35℃以下的高结晶性聚酯形成的高结晶性聚酯层、及脱模层的顺序层合,且在室温23℃湿度65%气氛中脱模层的表面与水的接触角在85°以上。
另外,本发明涉及一种转印箔,其中,面涂层(top coat)、印刷层及粘接层按此顺序设置在上述聚酯层合膜的脱模层上。
根据本发明,能够得到脱模性、印刷性、成型性及性价比优异的层合膜。更具体而言,关于脱模性,由于与被转印体的脱模性优异所以在脱模工序中不易产生剥离划痕。关于印刷性,由于对印刷油墨中含有的溶剂特别是乙酸乙酯、甲基乙基酮等的耐溶剂性优异,所以可以使用各种印刷油墨。另外,本发明的层合膜由于深拉深性及对被转印体表面形状的追踪性等成型性优异,所以优选用作印刷及成型后使用的模内转印箔,以及用于进行汽车内外装饰部件、浴室面板、家电产品用部件、包装容器等的印刷的转印加工的转印箔。
具体实施方式
本发明人对能够解决上述课题即同时满足脱模性、印刷性及成型性、且性价比优异的成型用聚酯层合膜进行了潜心研究,发现在作为基材的特定层合膜(以下称为基材膜)上尝试设置与水的接触角高的特定脱模层时,一举解决了上述课题。
本发明中,基材膜是在聚酯层的至少一面层合由结晶性参数ΔTcg为35℃以下的高结晶性聚酯形成的高结晶性聚酯层而形成的。因此,对油墨所含溶剂的耐溶剂性升高,结果印刷性提高。从抑制由温度或湿度等导致的各层伸缩应力不同引起的膜卷曲现象或膜处理性的方面考虑,特别优选基材膜为在高结晶性聚酯层为A、聚酯层为B时在聚酯层的两面层合高结晶性聚酯层形成的A/B/A的膜结构。此处,所谓A/B/A是以高结晶性聚酯层为A、聚酯层为B时各层按此顺序层合形成的2种3层膜结构。但是,也可以为仅在聚酯层的一面层合高结晶性聚酯层形成的A/B、或进一步层合聚酯层形成的A/B/A/B等膜结构。
基材膜优选满足下述关系,即,高结晶性聚酯层的结晶化指数Xs和聚酯层的结晶化指数Xc在Xs-Xc≥4(%)的范围内,更优选Xs-Xc≥6(%),特别优选Xs-Xc≥8(%)。Xs-Xc的值不在上述范围内时,印刷性易变差,故不优选。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东丽株式会社,未经东丽株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210104959.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。