[发明专利]基材膜及转印箔

权利要求书

1.一种基材膜，至少含有聚酯层、由结晶性参数ΔTcg为35℃以下的高结晶性聚酯形成的高结晶性聚酯层，所述高结晶性聚酯含有50～100质量％选自聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸丙二醇酯及聚萘二甲酸丁二醇酯中的至少一种，

构成所述高结晶性聚酯层的聚酯的结晶化指数Xs与构成所述聚酯层的聚酯的结晶化指数Xc满足Xs-Xc≥4％的关系，

所述聚酯层及所述高结晶性聚酯层的面取向系数为0.00～0.05的范围，

结晶性参数：ΔTcg(℃)＝Tc-Tg

此处，Tc为在差示扫描热量测定的升温过程中观察到的冷结晶化温度，Tg为玻璃化温度，

结晶化指数：X(％)＝(Sm-Sc)/Sm×100

此处，Sc为使用差示热分析仪得到的结晶化时的发热量，Sm为使用差示热分析仪得到的结晶化时的熔化时的吸热量。

2.如权利要求1所述的基材膜，其中，构成所述聚酯层的聚酯的玻璃化温度在60～78℃的范围内。

3.权利要求1或2所述的基材膜，其中，所述高结晶性聚酯层层合在所述聚酯层的两面。

4.一种转印箔，含有权利要求1～3中任一项所述的基材膜。