[发明专利]一种翡翠绿镀膜玻璃及其制作方法

权利要求书

1.一种翡翠绿镀膜玻璃，包括玻璃基片（1），其特征在于：所述玻璃基片（1）上依次设有氮化硅底层（2）、氧化锌层（3）、金属铬层或金属钛层或金属铋层（4）、金属银层（5）、氧化镍铬层（6）、氧化锌保护层（7）、氮化硅保护层（8）及氧化钛层（9）。

2.根据权利要求1所述的一种翡翠绿镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基片（1）的厚度为6-10mm，所述氮化硅底层（2）的厚度为75-83nm，所述氧化锌层（3）的厚度为25-33nm，所述金属铬层或金属钛层或金属铋层（4）的厚度为6-8nm，所述金属银层（5）的厚度为4.6-5.1nm，所述氧化镍铬层（6）的厚度为13-16nm，所述氧化锌保护层（7）的厚度为35-43nm，所述氮化硅保护层（8）的厚度为71-79nm，所述氧化钛层（9）的厚度为9-11nm。

3.根据权利要求2所述的一种翡翠绿镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基片（1）的厚度为6mm。

4.根据权利要求3所述的一种翡翠绿镀膜玻璃，其特征在于：所述氮化硅底层（2）的厚度为77nm，所述氧化锌层（3）的厚度为26nm，所述金属铬层或金属钛层或金属铋层（4）的厚度为7nm，所述金属银层（5）的厚度为4.8nm，所述氧化镍铬层（6）的厚度为14nm，所述氧化锌保护层（7）的厚度为37nm，所述氮化硅保护层（8）的厚度为73nm，所述氧化钛层（9）的厚度为9nm。

5.一种翡翠绿镀膜玻璃的制作方法，其特征在于包括以下步骤： 

a）：将6-10mm厚度的玻璃基片按照预定的尺寸切割成块并清洗干净，然后将离线高真空磁控溅射设备的基础真空度设置在10^-3Pa，线速度设置为1.5-2m/min；

b）：将切割后的玻璃基片输送进镀膜室中，设置第一离线高真空磁控溅射设备的功率为105-115KW，在玻璃基片上溅射第一层75-83nm的氮化硅底层（2）；

c）：设置第二离线高真空磁控溅射设备的功率为22-24KW，在玻璃基片上溅射第二层25-33nm的氧化锌层（3）；

d）：设置第三离线高真空磁控溅射设备的功率为4.0-4.5KW，在玻璃基片上溅射第三层6-8nm金属铬层或金属钛层或金属铋层（4）；

e）：设置第四离线高真空磁控溅射设备的功率为5.1-6.0KW，在玻璃基片上溅射第四层4.6-5.1nm的金属银层（5）；

f）：设置第五离线高真空磁控溅射设备的功率为7-9KW，在玻璃基片上溅射第五层13-16nm的氧化镍铬层（6）；

g）：设置第六离线高真空磁控溅射设备的功率为26-32KW，在玻璃基片上溅射第六层35-43nm的氧化锌保护层（7）；

h）：设置第七离线高真空磁控溅射设备的功率为99-103KW，在玻璃基片上溅射第七层71-79nm的氮化硅保护层（8）；

i）：设置第八离线高真空磁控溅射设备的功率为57-61KW，在玻璃基片上溅射第八层9-11nm的氧化钛层（9）。

6.根据权利要求5所述的一种翡翠绿镀膜玻璃的制作方法，其特征在于：

所述步骤a）中，所述玻璃基片厚度为6mm；

所述步骤b）中，设置第一离线高真空磁控溅射设备的功率为104KW，在玻璃基片上溅射第一层77nm的氮化硅底层（2）；

所述步骤c）中，设置第二离线高真空磁控溅射设备的功率为23KW，在玻璃基片上溅射第二层26nm的氧化锌层（3）；

所述步骤d）中，设置第三离线高真空磁控溅射设备的功率为4.2KW，在玻璃基片上溅射第三层7nm金属铬层或金属钛层或金属铋层（4）；

所述步骤e）中，设置第四离线高真空磁控溅射设备的功率为5.5KW，在玻璃基片上溅射第四层4.8nm的金属银层（5）；

所述步骤f）中，设置第五离线高真空磁控溅射设备的功率为7.5KW，在玻璃基片上溅射第五层14nm的氧化镍铬层（6）；

所述步骤g）中：设置第六离线高真空磁控溅射设备的功率为26KW，在玻璃基片上溅射第六层37nm的氧化锌保护层（7）；

所述步骤h）中，设置第七离线高真空磁控溅射设备的功率为101KW，在玻璃基片上溅射第七层73nm的氮化硅保护层（8）；

所述步骤i）中，设置第八离线高真空磁控溅射设备的功率为59 KW，在玻璃基片上溅射第八层9nm的氧化钛层（9）。