[发明专利]用于中红外分布反馈光栅制备的全息曝光光路调整方法有效
申请号: | 201210049218.7 | 申请日: | 2012-02-28 |
公开(公告)号: | CN102540475A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 李耀耀;李爱珍;张永刚;丁惠凤;李好斯白音;曹远迎 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09;G02B26/08;G02B27/46 |
代理公司: | 上海泰能知识产权代理事务所 31233 | 代理人: | 宋缨;孙健 |
地址: | 200050 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 红外 分布 反馈 光栅 制备 全息 曝光 调整 方法 | ||
1.一种用于中红外分布反馈光栅制备的全息曝光光路调整方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)通过两个高反镜调整全息曝光系统的入射激光的光路,使入射激光进入全息曝光系统;
(2)通过一个反射镜确定入射激光器在曝光平台另一侧的入射点和入射角度,利用反射镜确定的入射点和入射角度作为参考,调整空间滤波器和准直透镜,得到一束扩束的平行光;
(3)调整置片台,通过置片台的安装,使扩束后的平行光分为两束相干、平行的光束,两光束在置片台上通过干涉形成明暗相间的条纹。
2.根据权利要求1所述的用于中红外分布反馈光栅制备的全息曝光光路调整方法,其特征在于,所述步骤(1)还包括以下子步骤:
(11)调整第一高反镜的高度,使第一高反镜的中心位置对准激光器的出射点;然后调整第二高反镜的高度以决定全息曝光系统的入射光的高度;
(12)调整第一高反镜的角度,使激光器的出射激光经第一高反镜后入射到第二高反镜的中心位置;
(13)调整第二高反镜的角度,使经过第二高反镜反射的激光平行于全息曝光平台。
3.根据权利要求1所述的用于中红外分布反馈光栅制备的全息曝光光路调整方法,其特征在于,所述步骤(2)还包括以下子步骤:
(21)在相对第二高反镜的另一侧放置反射镜,调整反射镜的高度,使入射激光入射到反射镜的中心位置,标记入射点;然后调整反射镜的角度,使反射光的光路和入射光的光路重合,固定反射镜;
(22)调整空间滤波器的高度和位置,使入射激光完全进入空间滤波器的透镜中;然后调整小孔和透镜的距离,使经空间滤波器的出射光成为均匀放大的光斑;在空间滤波器前方,出射光斑的中心位置放一个光阑,使光阑的中心和出射光斑的中心重合,均匀的光束经光阑后形成一较细的光束;调整空间滤波器的水平方向和垂直方向的倾角,使出射光斑经光阑后入射到反射镜上,入射位置和反射镜上标记的入射点重合,且经过反射镜的反射光和入射光光路重合;
(23)确定准直透镜的高度,使准直透镜位于出射光斑的中心;调整准直透镜和空间滤波器的距离,使空间滤波器的出射点位于准直透镜的焦点上,使发散的出射光斑经透镜后成为均匀、准直的平行光束;使光阑中心和透镜中心重合,均匀的平行光束经光阑后形成一较细的光束;微调准直透镜,使平行光束经光阑后入射到反射镜上,入射位置和反射镜标记的原系统入射激光的入射点重合,且经过反射镜的反射光和入射光光路重合。
4.根据权利要求1所述的用于中红外分布反馈光栅制备的全息曝光光路调整方法,其特征在于,所述步骤(3)包括以下子步骤:
(31)在置片台一侧装有一个第三高反镜,第三高反镜和置片台相互垂直,将置片台旋转90°,使第三高反镜垂直于入射光束;调整置片台的倾斜角度,使经过光阑的光束垂直入射到第三高反镜上,入射光和反射光重合;
(32)调整置片台的位置,在垂直于入射光的方向上水平移动,使入射光束一半入射到高反镜上,一半入射到置片台上,调节置片台的旋转角度,使入射到置片台的物光和经高反镜反射到置片台的参考光在置片台上干涉,形成明暗相间的条纹。
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