[实用新型]表膜收纳容器有效
申请号: | 201120147763.0 | 申请日: | 2011-05-10 |
公开(公告)号: | CN202110373U | 公开(公告)日: | 2012-01-11 |
发明(设计)人: | 竹下辉树;广濑隆德 | 申请(专利权)人: | 旭化成电子材料株式会社 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66;B65D85/00;B65D81/02 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 收纳 容器 | ||
1.一种表膜收纳容器,其具有托盘和盖,该托盘用于载置表膜,该表膜在表膜框体的一缘面上张设有表膜用膜,该盖自该托盘的上部进行覆盖,其特征在于,
该托盘具有:托盘中央底面、自该托盘中央底面向上部侧隆起并用于载置表膜的大致多边环状的载置台、自该载置台的外周缘沿水平方向延伸的外延部,
在该托盘中央底面和该载置台之间以及该载置台和该外延部之间分别具有缓冲部。
2.根据权利要求1所述的表膜收纳容器,其特征在于,
该托盘中央底面和该载置台之间的缓冲部是在与该托盘中央底面和该载置台不同的高度上分成两个以上的台阶的台阶部,该载置台和该外延部之间的缓冲部是在与该载置台和该外延部不同的高度上分成两个以上的台阶的台阶部。
3.根据权利要求1所述的表膜收纳容器,其特征在于,
该托盘中央底面与该载置台之间的缓冲部的、形成于该载置台的角部附近的部分的面积向该托盘中央底面方向增大而相对变大。
4.根据权利要求2所述的表膜收纳容器,其特征在于,
该托盘中央底面与该载置台之间的缓冲部的、形成于该载置台的角部附近的部分的面积向该托盘中央底面方向增大而相对变大。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的表膜收纳容器,其特征在于,
该托盘中央底面与该载置台之间的缓冲部的、形成于该载置台的角部附近的部分自该托盘中央底面向该表膜框体的该载置台方向立起,并且具有横切该托盘外形对角线的垂直面。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的表膜收纳容器,其特 征在于,
在该托盘中央底面的该载置台附近形成有上述表膜框体的高度方向的第二台阶部。
7.根据权利要求5所述的表膜收纳容器,其特征在于,
在该托盘中央底面的该载置台附近形成有上述表膜框体的高度方向的第二台阶部。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备