[发明专利]线光源辐照度分布模拟方法及系统

权利要求书

1.线光源辐照度分布模拟方法，其特征在于：包括以下步骤：

A、设置线光源的数量、辐射功率、发光长度、位置坐标；

B、设置样品长度、位置坐标；

C、根据实际需要选择数学模型，然后根据相应的线光源辐照度公式计算得出辐照度分布数据；

D、绘制并显示辐照度分布图。

2.根据权利要求1所述的线光源辐照度分布模拟方法，其特征在于：还包括以下步骤：

E、显示任一鼠标光标所在点的辐照度数据；

F、统计样品受光面上的辐照度平均值、不均匀度、最大值和最小值。

3.根据权利要求1所述的线光源辐照度分布模拟方法，其特征在于：所述步骤A中所有线光源位于同一平面内，且平行或共线。

4.根据权利要求1所述的线光源辐照度分布模拟方法，其特征在于：所述辐照度分布图可以是等辐照度线或渐变图。

5.根据权利要求1所述的线光源辐照度分布模拟方法，其特征在于：所述线光源位置坐标与样品位置坐标由X坐标和Y坐标组合表示，辐照度分布图中设有X，Y垂直坐标系，X坐标表示距离Y轴的值，Y坐标表示距离X轴的值。

6.根据权利要求1所述的线光源辐照度分布模拟方法，其特征在于：所述步骤C中不考虑受光角度影响下，线光源辐照度公式为：

单个线光源对样品受光表面任意一点的辐照度为

e1=∫0LΦ4πL·1(a-x)2+b2dx]]>

=Φ4πbL·(arctgL-ab+arctgab)]]>

其中，线光源位于X轴上，L为单个线光源长度，Φ为单个线光源辐射通量，x为线光源上任意一点的X坐标，a为样品受光表面任意一点的X坐标，b为样品表面任意一点的Y坐标；

多个线光源对样品表面该点的辐照度为

E₁为代数和，e_1i为任意一个单个线光源对该点的辐照度。