[发明专利]一种基于实际抛物面坐标的大天线的辐射测试方法

说明书

技术领域

本发明属电子学、天线微波测量、航空航天的技术领域，特别涉及一种基于实际抛物面坐标的大天线的辐射测试方法。

背景技术

大天线加工完成后的测试长期以来一直是个难题。光学测量对于天线来说可以得到足够精确的形面误差，但其实际方向图测量一直无法完成。

由于条件限制，远场测试和紧缩场测试静区达不到数米甚至上百米大型天线的测试条件；近场扫描架目前也只有几十米的行程，且测试时间极长，以往对大型天线测试的解决办法往往是不进行辐射特性测试，而仅仅依赖于设计时的理想仿真值，物理光学是分析口径天线的有效手段，可以得到足够精确的天线辐射特性。

物理光学可以得到相对来说较为准确的表面电流分布和磁流分布，物理光学方法把口径分为多个网格，如图1所示的偏馈抛物面天线的网格计算剖分的示意图，以各个网格点源的合成计算其总辐射场。物理光学计算馈源产生的电流时可以看作反射面前的等效面上产生的，这样就有了到达反射面的入射场。

由于边界条件限制，切向电场为零，意味着有反向的表面电流存在。将馈源方向图和反射面形面数据输入得到天线辐射方向图。

对于全导体结构反射面，表面电流可以看作：

Jpo=n^×Htotal0---(1)]]>

电流位能是：

A=∫∫Jpoe-jkR4πRdS---(2)]]>

由镜像原理可知：导体表面切向磁场是源场的两倍，因此位能也就是：

A=e-jkl04πl0∫∫2(n^×Hi)e-jkldS---(3)]]>

而辐射远场为：