[发明专利]新用途

权利要求书

1.下式I化合物用于杀伤、抑制或防止微生物生物膜生长的用途：

其中：

X₁、X₂、X₃和X₄独立代表氢原子、亲脂部分、苯基、低级烷基、烷芳基或芳烷基或下式阳离子基团：

-L-R₁-N⁺(R₂)(R₃)R₄

其中：

L为连接部分或不存在；

R₁代表低级亚烷基、低级亚烯基或低级亚炔基，其任选被选自以下的一个或多个取代基取代：低级烷基、低级亚烷基(任选插入氧)、氟、OR₅、C(O)R₆、C(O)OR₇、C(O)NR₈R₉、NR₁₀R₁₁和N⁺R₁₂R₁₃R₁₄；和

R₂、R₃和R₄独立代表H、芳基、低级烷基、低级烯基或低级炔基，其中后三者任选被选自以下的一个或多个取代基取代：低级烷基、低级亚烷基(任选插入氧)、芳基、OR₅、C(O)R₆、C(O)OR₇、C(O)NR₈R₉、NR₁₀R₁₁和N⁺R₁₂R₁₃R₁₄Z为-CH或N；和

Y₁、Y₂、Y₃和Y₄不存在或独立代表芳基、低级烷基、低级烯基或低级炔基，其中后三者任选被选自以下的一个或多个取代基取代：低级烷基、低级亚烷基(任选插入氧)、芳基、OR₅、C(O)R₆、C(O)OR₇、C(O)NR₈R₉、NR₁₀R₁₁、N⁺R₁₂R₁₃R₁₄；或与它们所连接的吡咯环一起形成环状基团；和

R₅、R₆、R₇、R₈、R₉、R₁₀、R₁₁、R₁₂、R₁₃和R₁₄独立代表H或低级烷基，

前提为X₁、X₂、X₃和X₄中的至少一个为如上所定义的阳离子基团，并且X₁、X₂、X₃和X₄中的至少一个为氢原子。

2.下式II化合物用于杀伤、抑制或防止微生物生物膜生长的用途：

其中M为金属元素或类金属元素；

和X₁、X₂、X₃、X₄、Y₁、Y₂、Y₃、Y₄和Z如权利要求1所定义。

3.权利要求1或2用于杀伤、抑制或防止微生物生长的用途，所述用途通过不包括让所述化合物与激活抗微生物活性的刺激物接触的方法来实现。

4.前述权利要求中任一项的用途，其中所述化合物在缺乏用光动力学疗法光源或超声源的辐照情况下表现出抗微生物活性。

5.权利要求2-4中任一项的用途，其中M为二价或三价金属元素。