[发明专利]一种促进黄瓜生长的方法及其专用培养基无效

专利信息
申请号: 200910076246.6 申请日: 2009-01-08
公开(公告)号: CN101773060A 公开(公告)日: 2010-07-14
发明(设计)人: 张文浩;李银心;王宝兰 申请(专利权)人: 中国科学院植物研究所
主分类号: A01G31/00 分类号: A01G31/00
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 关畅
地址: 100093北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 促进 黄瓜 生长 方法 及其 专用 培养基
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种促进黄瓜生长的方法及其专用培养基。

背景技术

目前关于提高植物抗盐能力的肥料品种的研究虽多有报道,但是,在无土营养液培养的情况下如何提高蔬菜如黄瓜的抗盐能力方面的研究还很少。土壤的盐渍化严重制约着我国蔬菜生产,同时在我国的南方海岛地带,淡水资源的短缺是限制其农业生产的一个主要因素。

黄瓜对盐胁迫非常敏感,水分的盐渍化是限制黄瓜生产的关键因素。离子毒害主要是由于植物摄取了过量的Na-1、K-1、Cl-1等离子,使植物细胞内离子浓度增高,而细胞内许多酶却只能在很狭窄的离子浓度范围才具有活性。目前关于盐胁迫的浓度下限还没有统一标准,不同植物品种对盐胁迫表现出不同的敏感性。一般认为在无机盐中对植物危害最大的是钠盐,农作物通常对NaCl非常敏感,即使是50mMNaCl的低盐度对于耐盐性较强的水稻也是致死的(林栖风等.植物耐盐性研究进展[J].生物工程进展,2005,20:20-25)。大量的研究证明,大部分的蔬菜类植物对盐都表现出敏感性,黄瓜作为主要的蔬菜品种之一对盐胁迫表现出很强的敏感性(DajicZora.Salt stress.Physiology and Molecular Biology of Stress Tolerance in Plants[M].Printed in the Netherlands.2006,41-99)。因此,提高盐渍条件下黄瓜的生长情况从而提高资源的利用率,为当地的蔬菜生产提供保障是一项亟待解决的问题。

发明内容

本发明的目的是一种促进黄瓜生长的方法及其专用培养基。

本发明提供的促进黄瓜生长的专用培养基,包括H3BO3、MnCl2·4H2O、CuSO4·5H2O、ZnSO4·7H2O、Na2MoO4·2H2O、MgSO4·7H2O、KNO3、Ca(NO3)2·4H2O和Fe-EDTA组成;除上述植物必须的大量和微量元素外,该培养基的组分中还加入腐胺(putrescine)。

上述各组分的名称及摩尔浓度如下所示:

H3BO3:20-100μM;具体可为25-95μM,30-92μM;

MnCl2·4H2O:5-10μM;具体可为6.0-9.5μM,6.5-9.0μM;

CuSO4·5H2O:0.2-0.5μM;具体可为0.3-0.45μM,0.35-0.40μM;

ZnSO4·7H2O:0.5-1μM;具体可为0.6-0.95μM,0.65-0.90μM;

Na2MoO4·2H2O:0.1-1μM;具体可为0.2-0.9μM,0.25-0.80μM;

MgSO4·7H2O:1-2.5mM;具体可为1.5-2.45mM,1.55-1.95mM;

KNO3:3-5mM;具体可为3.55-4.55mM,3.50-4.50mM;

Ca(NO3)2·4H2O:2-4mM;具体可为2.55-3.55mM,2.50-3.50mM;

Fe-EDTA:50-100μM;具体可为55-95μM,60-90μM;

腐胺(putrescine):10-100μM,具体可为15-95μM,20-80μM。

该培养基中,大量和微量元素的优选摩尔浓度为Hoagland配方:

H3BO3:46μM;

MnCl2·4H2O:9.0μM;

CuSO4·5H2O:0.32μM;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院植物研究所,未经中国科学院植物研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910076246.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top