[实用新型]一种掩膜版

说明书

技术领域

本实用新型属于半导体光刻显影技术领域，尤其涉及一种掩膜版。

背景技术

液晶显示器、集成电路等半导体器件的制程需要用到掩膜版，以在玻璃基板或半导体基片上蚀刻出用户需要的图形。图1示出了掩膜版的制作流程，首先用计算机设计软件进行图形制作，并将图形转换为曝光设备可识别的数据，然后曝光设备在涂覆有感光胶的掩膜版上曝光成与设计要求一致的图形，最后对掩膜版进行显影处理，使掩膜版上的感光胶呈现出用户需要的图形。

掩膜版在显影过程中，由于工艺条件的差异性，或者显影手法的熟练程度都会影响显影的精度。为保证此关键制程的稳定性，必须寻找一种可靠、便捷的显影控制技术，确保掩膜版的质量满足各种要求。

现有的显影工艺主要是依靠控制显影液的浓度，显影过程中的温度，显影的手法以及显影的时间来控制显影的精度，该方法受工艺环境的影响较大，对掩膜版的前端制程也有较高要求，要达到掩膜版高精度的稳定控制，必须保证掩膜版的材料稳定，曝光工艺的稳定，显影工艺的稳定，尤其是在显影阶段，主要依靠两种方法来实现显影精度的控制：1、基于大量实验找出同一容器中显影液的显影次数与显影时间的关系，将之应用到实际生产，根据显影液浓度的变化对显影时间进行控制；2、保持显影液的浓度恒定。其中根据显影液浓度的变化对显影时间进行控制的方式生产操作实现难度较高，而采用控制显影液浓度的方式成本压力又较大。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种掩膜版，旨在解决现有技术中对掩膜版显影精度的控制实现难度较高或成本压力大的问题。

本实用新型是这样实现的，一种掩膜版，所述掩膜版具有一显影精度控制图标，所述显影精度控制图标包含有第一组刻度标记，所述第一组刻度标记由一组刻度标记图案组成，所述第一组刻度标记中的各个刻度标记图案的线宽依次呈递增或递减变化，所述第一组刻度标记中的每个刻度标记图案的线宽均匀。

本实用新型中，通过在掩膜版上制作一显影精度控制图标，该显影精度控制图标中包含有一组刻度标记，每组刻度标记由线宽呈递增或递减顺序变化且线宽均匀的刻度标记图案组成，通过监控该刻度标记中刻度标记图案的显影程度，将刻度标记的显影变化情况和掩膜版的显影时间有机的结合起来，最终实现控制显影精度，同时减少了显影液浓度的变化对产品精度的影响，而不再需要根据显影液浓度的变化对显影时间进行控制，或维持显影液的浓度恒定，实现简单且缓解了成本压力，同时根据该图标可以很方便的判断出掩膜版的显影程度，提高了制程的稳定性和可追溯性。

附图说明

图1是现有技术提供的掩膜版的制作流程示意图；

图2是本实用新型第一实施例提供的使用正性感光胶的掩膜版的显影精度控制图标示意图；

图3是本实用新型第一实施例提供的使用负性感光胶的掩膜版的显影精度控制图标示意图；

图4是本实用新型第二实施例提供的掩膜版显影精度控制图标示意图；

图5是本实用新型第三实施例提供的掩膜版显影精度控制图标示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

本实用新型实施例中，在掩膜版上制作一显影精度控制图标，该显影精度控制图标中包含有一组或多组刻度标记，每组刻度标记由线宽呈递增或递减顺序变化且线宽均匀的刻度标记图案组成，通过监控该刻度标记中刻度标记图案的显影程度最终实现控制显影精度。