[实用新型]一种掩膜版有效

专利信息
申请号: 200820147200.X 申请日: 2008-09-05
公开(公告)号: CN201237695Y 公开(公告)日: 2009-05-13
发明(设计)人: 李跃松;苏利刚 申请(专利权)人: 清溢精密光电(深圳)有限公司
主分类号: G03F1/14 分类号: G03F1/14;G03F1/00
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 代理人: 张全文
地址: 518057广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 掩膜版
【权利要求书】:

1、一种掩膜版,其特征在于,所述掩膜版具有一显影精度控制图标,所述显影精度控制图标包含有第一组刻度标记,所述第一组刻度标记由一组刻度标记图案组成,所述第一组刻度标记中的各个刻度标记图案的线宽依次呈递增或递减变化,所述第一组刻度标记中的每个刻度标记图案的线宽均匀。

2、如权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述刻度标记图案为矩形图案。

3、如权利要求1或2所述的掩膜版,其特征在于,所述显影精度控制图标包含有第二组刻度标记,所述第二组刻度标记由一组刻度标记图案组成,所述第二组刻度标记中的各个刻度标记图案的线宽依次呈递增或递减变化的,所述第二组刻度标记中的每个刻度标记图案的线宽均匀;所述第二组刻度标记中的刻度标记图案的最大线宽小于所期望显影的刻度标记的线宽。

4、如权利要求1或2所述的掩膜版,其特征在于,所述显影精度控制图标包含有第二组刻度标记,所述第二组刻度标记由一组刻度标记图案组成,所述第二组刻度标记中的各个刻度标记图案的线宽依次呈递增或递减变化的,所述第二组刻度标记中的每个刻度标记图案的线宽均匀;所述第二组刻度标记中的刻度标记图案的最小线宽大于所期望显影的刻度标记的线宽。

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