[发明专利]一种透视检测系统及方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种透视检测系统及方法，尤其涉及一种用于透视检测电子组件的透视检测系统及方法。

背景技术

目前，一些高能量光源，例如，X光光源，伽玛射线源，常应用于计算机断层影像系统中，用以检测待测物的生化及病理特性。一般而言，于计算机断层扫瞄(CT)中，利用X光做为光源并照射一待测检测物，以得出该待测检测物的结构性影像。而单光子发射计算机断层扫瞄(SPECT)则使用放射性同位素伽玛射线造影，以得出该待测检测物的功能性影像，例如，于中华民国专利公报的公告/公开号00,565,437《整合结构性及功能性造影的计算机断层影像系统》中使用X光、伽玛射线做为光源、幅射源来检测待测物的生化及病理特性。因此，在高能量光源(例如，X光光源)的应用上常仅局限于计算机断层影像系统，并常仅用于检测待测物的生化及病理特性，而并未应用于电子组件透视检测上。

即便如中华民国专利公报的公告/公开号0,056,023《使用光及X射线的观察装置、曝光装置及曝光方法》中所述的，然而，该专利仅适用于电路基板/光罩基板上，而并非是针对电子组件而言，况且，于该专利中曝光装置必须予以移动以进行曝光方法，因此，该专利仅是利用可见光、以及X光当成曝光光源，而并非是用来检测透视电子组件的结构。

而且，如于中华民国专利公报的公告/公开号I273275《控制幅射的传感器装置、具此传感器装置的计算机断层扫瞄装置及其制造方法》中所述的，该专利仅为应用于计算机断层扫瞄装置中的传感器装置、及其制造方法，其适用范围也仅局限于计算机断层扫瞄方面。

所以如何寻求一种透视检测系统及方法，让X光光源及/或可见光光源，并非应用于如现有技术中的计算机断层扫瞄系统、装置，并非用于检测待测物的生化及病理特性，而且，也并非用于电路基板/光罩基板的曝光上，而是可应用于电子组件的透视检测上，乃是待解决的问题。

发明内容

本发明的主要目的便是在于提供一种透视检测系统及方法，应用于电子组件透视检测环境中，该透视检测系统利用X光源及/或可见光源来照射所须检测的电子组件，在无须移动检测物的情况下，得出电子组件外形轮廓影像、以及该电子组件内部透视影像。

本发明的又一目的便是在于提供一种透视检测系统及方法，该透视检测系统利用X光源及/或可见光源来照射所须检测的电子组件，在无须移动检测物的情况下，将所照射出的电子组件外形轮廓影像、以及该电子组件内部透视影像予以迭合，通过所得的检测物外表与内层的清晰影像，而可精确地判断、检测该电子组件。

根据以上所述之目的，本发明提供一种透视检测方法，应用于电子组件透视检测，该透视检测方法包含以下程序：

在电子组件无须移动的情况下，产生出X光光源及/或可见光光源并照射该电子组件；

光源穿透该电子组件后，将该X光转换为微弱的荧光并将影像予以增强；以及

将由可见光照射该电子组件所形成的外形轮廓影像、以及X光照射该电子组件所形成的内部透视影像予以迭合；通过所得的该电子组件的迭合影像，而判断、检测该电子组件。

本发明还提供了一种透视检测方法，应用于电子组件透视检测，该透视检测方法包含以下程序：

于电子组件无须移动的情况下，以光源模块所产生的X光光源及/或可见光光源照射于承载模块上的该电子组件；

该X光光源穿透于该承载模块上的该电子组件后，于该承载模块下方的X光转换/影像增强装置会将该X光转换为微弱的荧光，并将影像予以增强；以及

于该X光转换/影像增强装置下方的镜头以及CCD照相机，将由可见光照射该电子组件所形成的外形轮廓影像、以及X光照射该电子组件所形成的内部透视影像予以迭合，并由该CCD照相机输出迭合影像；通过所得的该电子组件的迭合影像，而判断、检测该电子组件。

在所述的该透视检测方法中，所述电子组件为发光二极管。

在所述的该透视检测方法中，所述外形轮廓影像与该内部透视影像同步同时形成。

在所述的该透视检测方法中，所述外形轮廓影像的形成先于该内部透视影像。

在所述的该透视检测方法中，所述内部透视影像的形成先于该外形轮廓影像。

本发明进一步提供了一种透视检测系统，应用于电子组件透视检测，该透视检测系统包含：

光源模块，该光源模块用以产生出照射电子组件所需的X光光源及/或可见光光源；

承载模块，该承载模块用以承载该电子组件，并让该X光光源及/或该可见光光源照射电子组件；以及